[发明专利]一种含氟光刻胶酸敏树脂单体及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种含氟光刻胶酸敏树脂单体，其特征在于，所述树脂单体的结构为：其中，R₁为氢或者甲基；R₂为C₁-C₁₂的饱和烷烃基，且烃基结构中的亚甲基可以被酯基、醚基、碳酸酯基替代；R₃为C₁-C₁₂的饱和烷烃基；R₄为全氟代或者部分氟代的C₁-C₁₂的饱和烷烃基。

2.根据权利要求1所述的一种含氟光刻胶酸敏树脂单体，其特征在于，所述树脂单体选自以下结构：

其中，R₁为氢或者甲基。

3.根据权利要求1或2所述的一种含氟光刻胶酸敏树脂单体的制备方法，其特征在于，所述含氟光刻胶酸敏树脂单体的合成路线为：

其中，R₁为氢或者甲基；R₂为C₁-C₁₂的饱和烷烃基，且烃基结构中的亚甲基可以被酯基、醚基、碳酸酯基替代；R₃为C₁-C₁₂的饱和烷烃基；R₄为全氟代或者部分氟代的C₁-C₁₂的饱和烷烃基；

具体步骤如下：

步骤a.在碱性条件下，原料Ⅰ与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯发生酯化反应生成中间体Ⅱ，溶剂为甲苯、二氯甲烷或者四氢呋喃；

步骤b.中间体Ⅱ与中间体Ⅲ在酸催化、加热回流下脱水缩合得到树脂单体Ⅳ，溶剂为甲苯。

4.根据权利要求3所述的一种含氟光刻胶酸敏树脂单体的制备方法，其特征在于，所述原料Ⅰ为

5.根据权利要求3所述的一种含氟光刻胶酸敏树脂单体的制备方法，其特征在于，所述步骤a中碱为三乙胺、二异丙基胺或者N,N’-二异丙基乙胺。

6.根据权利要求3所述的一种含氟光刻胶酸敏树脂单体的制备方法，其特征在于，所述中间体Ⅲ选自以下结构：

7.根据权利要求3所述的一种含氟光刻胶酸敏树脂单体的制备方法，其特征在于，所述步骤b中的酸为三氟甲磺酸或对甲苯磺酸。

8.根据权利要求1或2所述的一种含氟光刻胶酸敏树脂单体用于制备光刻胶。