[发明专利]一种光刻胶树脂单体及其合成方法和应用

权利要求书

1.一种光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体的结构为式Ⅰ：

其中，n为1～10的整数，R₁为氢、甲基或者氟代烷烃,R₂为氢或者一价有机基团，且R₂为一价有机基时，R₂通过与相邻的O原子形成酯基或者碳酸酯基与多元环相连；且多元环上的氢原子可以被1～10个碳原子数的烷基取代。

2.根据权利要求1所述的一种光刻胶树脂单体，其特征在于，所述式Ⅰ选自以下结构式Ⅱ、式Ⅲ和式Ⅳ之一：

其中，n为1或2，R₃为烷基，R₁为氢、甲基或者三氟甲基。

3.根据权利要求2所述的一种光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体的选自以下结构：

其中，R₁为氢、甲基或者三氟甲基。

4.根据权利要求3所述的一种光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体的具体选自以下结构：

5.一种光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述光刻胶树脂单体为式Ⅱ树脂单体，合成方法为：

其中，n为1或2，R₁为氢、甲基或者三氟甲基；

步骤a.惰性气体保护下，将二氯化钛和1锌加入到二氯甲烷中，再加入三甲基乙腈，冷却到0～5摄氏度，然后加入环酮Ⅱ-1的二氯甲烷溶液，在20～30摄氏度下反应，后处理纯化后得到中间体Ⅱ-2；

步骤b.在碱性条件下，中间体Ⅱ-2与丙烯酰氯或者取代丙烯酰氯在二氯甲烷中发生酯化反应，经后处理纯化得到式Ⅱ树脂单体。

6.根据权利要求5所述的一种光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述光刻胶树脂单体为式Ⅲ树脂单体，合成方法为：

其中，n为1或2，R₃为烷基，R₁为氢、甲基或者三氟甲基；

步骤c.在碱性条件下，1当量的式Ⅱ树脂单体与烷基酰氯在二氯甲烷中发生酯化反应，经后处理纯化得到式Ⅲ树脂单体。

7.根据权利要求5所述的一种光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述光刻胶树脂单体为式Ⅳ树脂单体，合成方法为：

其中，n为1或2，R3为烷基，R1为氢、甲基或者三氟甲基；

步骤d.在碱性条件下，式Ⅱ树脂单体与酸酐化合物在溶剂Ⅱ中发生反应，经后处理纯化得到式Ⅳ树脂单体。

8.根据权利要求5所述的一种光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，步骤b中所述取代丙烯酰氯为甲基丙烯酰氯或三氟甲基丙烯酰氯。

9.根据权利要求1至4任一项所述的一种光刻胶树脂单体用于制备光刻胶。