[发明专利]一种适用于单晶硅片的制绒添加剂及应用

权利要求书

1.一种适用于单晶硅片的制绒添加剂，其特征在于：所述制绒添加剂由如下质量百分比含量的组分组成：主成核剂0.01~1wt%、辅助成核剂0.001~0.1wt%、绒面修饰剂0.1~2wt%、脱泡剂0.1~3wt%、余量为去离子水；所述主成核剂为木质素磺酸钠；所述辅助成核剂为聚醚多元醇；所述绒面修饰剂为环糊精衍生物；所述脱泡剂为哌嗪衍生物。

2.根据权利要求1所述的适用于单晶硅片的制绒添加剂，其特征在于：所述聚醚多元醇分子量为400~1500，选自丙二醇聚醚、甘油聚醚、山梨醇聚醚和蔗糖聚醚中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的适用于单晶硅片的制绒添加剂，其特征在于：所述环糊精衍生物选自羟乙基-β-环糊精、羧甲基-β-环糊精、磺丁基-β-环糊精和羟丙基-β-环糊精中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的适用于单晶硅片的制绒添加剂，其特征在于：所述哌嗪衍生物选自N-(2-羟乙基)哌嗪、1，4-双(2-羟基乙基)哌嗪中的一种或两种。

5.一种单晶硅片制绒用制绒液，其特征在于：包含碱溶液和权利要求1-4中任一项所述的制绒添加剂，制绒添加剂与碱溶液的质量比为0.3:100～3:100，碱溶液为无机碱的水溶液。

6.根据权利要求5所述的一种单晶硅片制绒用制绒液，其特征在于：所述碱溶液为0.3～0.7wt%的氢氧化钠水溶液或氢氧化钾水溶液。

7.一种单晶硅片的制绒方法，其特征在于：利用权利要求5或6所述的制绒液对单晶硅片进行表面制绒，包括如下步骤：

（1）将质量百分含量为0.01~1%的主成核剂，0.001~0.1%的辅助成核剂，0.1~2%的绒面修饰剂，0.1~3%的脱泡剂加入到余量的去离子水中混合均匀，配成制绒添加剂；

（2）将步骤（1）的制绒添加剂与0.3～0.7wt%的碱溶液按0.3：100~3:100的比例混合均匀，配成单晶硅片制绒用制绒液；

（3）将单晶硅片浸入步骤（2）制得的制绒液中进行表面制绒，制绒温度为80~85℃，制绒时间为7～9min；

（4）将步骤（3）完成制绒的单晶硅片水洗后浸入含有氢氟酸和盐酸的混酸中清洗，获得制绒后的单晶硅片。