[发明专利]一种廉价、简单的增强界面处等离激元驱动的光还原反应的方法

权利要求书

1.一种增强界面处等离激元驱动的光还原反应的方法，其特征在于：等离子体金属介导光还原的方法，在盖玻片表面采用3-氨丙基三乙氧基硅烷APS改性后，浸泡已经超声后的氧化石墨烯薄片，采用恰当的参数进行溅射，将上述结构先置于对硝基苯硫酚乙醇溶液中浸泡，通过在等离子体金属上形成等离子体金属-硫化学键吸附反应物分子，最后将该结构置于带正电的含苯环有机分子溶液中浸泡即可获得一种吸附正电分子助催化剂的氧化石墨烯与等离子体金属的复合催化结构；通过原位拉曼光谱监测对硝基苯硫酚到对巯基偶氮苯的反应，可知在氧化石墨烯表面吸附带正电的含苯环有机分子可有效且简便地增强等离激元驱动的光还原反应；所述氧化石墨烯通过有效吸附带正电的含苯环有机分子，可以显著增强氧化石墨烯与等离子体金属界面处等离激元驱动的对硝基苯硫酚的还原反应。

2.根据权利要求1所述的增强界面处等离激元驱动的光还原反应的方法，其特征在于：等离子体金属介导光还原的方法，在盖玻片表面采用3-氨丙基三乙氧基硅烷APS改性后，浸泡30s已经超声30min后的氧化石墨烯薄片，采用每次8mA 20s的参数进行10次不间断的溅射，将上述结构先置于对硝基苯硫酚乙醇溶液中浸泡2小时，在等离子体金属上形成等离子体金属-硫化学键，最后将该结构置于带正电的含苯环有机分子溶液中浸泡30min即可获得一种吸附正电分子助催化剂的氧化石墨烯与等离子体金属的复合催化结构；通过原位拉曼光谱监测对硝基苯硫酚到对巯基偶氮苯的反应，可知在氧化石墨烯表面吸附带正电的含苯环有机分子可有效且简便地增强等离激元驱动的光还原反应。

3.根据权利要求1所述的增强界面处等离激元驱动的光还原反应的方法，其特征在于：所述的等离子体金属是指金、银、铜、铝、合金，所述合金可以是金、银、铜、铝的相互复合，也可以是金、银、铜、铝与铂、钯的合金。

4.根据权利要求1所述的增强界面处等离激元驱动的光还原反应的方法，其特征在于：所述带正电的含苯环有机分子为染料分子甲基紫或罗丹明110。

5.根据权利要求1所述的增强界面处等离激元驱动的光还原反应的方法，其特征在于：所述的氧化石墨烯是一种产率高，缺陷较少的片层材料；其制备过程是：

将石墨0.75g，325目与KMnO₄4.5g均匀混合，置于250 mL单口烧瓶中，烧瓶中提前放入磁子；将上述烧瓶置于油浴锅中调好磁子中速同时设置好温度50℃，将10mL 浓H₃PO₄与90mL浓H₂SO₄混酸溶液延瓶壁流入，缓慢滴加；当温度升到50℃，反应12h，12h后将上述混合物采用冰浴降温至室温，此时反应物变成紫绿色然后缓慢滴加100mL冰水混合物；然后逐渐加入30％H₂O₂去除过量的氧化剂，逐滴加入并搅拌，当最后一滴加入后溶液变成亮黄色；最后，将浆液转移到离心管中8000 rpm离心10分钟，除去无色的上清液，获得沉淀即氧化石墨烯片，该沉淀可以分散在水溶液或者乙醇溶液中。

6.据权利要求1所述的增强界面处等离激元驱动的光还原反应的方法，其特征在于：在盖玻片表面进行APS 3-氨丙基三乙氧基硅烷改性后，浸泡30s已经超声30min后的氧化石墨烯薄片，以每次8mA的20s的参数进行10次不间断的溅射，将上述结构先置于对硝基苯硫酚乙醇溶液中浸泡2小时，通过等离子体金属与硫形成化学键吸附反应物对硝基苯硫酚，最后将该结构置于带正电的含苯环有机分子溶液中浸泡30min即可获得一种吸附正电分子助催化剂的氧化石墨烯与等离子体金属的复合催化结构。