[发明专利]一种基于H2

权利要求书

1.本发明利用炭黑/石墨空气呼吸阴极原位生产H₂O₂，并制作了一种UV/H₂O₂结合的消毒装置，使用雾化H₂O₂与不同功率紫外灯对空气中的细菌微生物进行消毒，对比UV与UV/H₂O₂不同消毒工艺下细菌的去除效果。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)消毒装置如图1。装置(15cm×15cm×15cm、30cm×30cm×30cm、45cm×45cm×45cm)四周平行放置可拆卸紫外灯，紫外设备采用不同功率低压紫外灯，顶部安装H₂O₂雾化喷头，侧下方留有活动开口，用于放置营养琼脂平板采样。

(2)H₂O₂的原位生成：H₂O₂的生产是在单室反应器(28mL，直径3cm和长4cm)的双电极系统中进行的，阳极使用Pt电极，阴极使用炭黑/石墨空气呼吸阴极。将1h内累积的H₂O₂(2044±126mg L^-1)连续雾化喷洒到消毒装置中。

(3)设置对照组实验：设置单UV消毒、UV/H₂O₂消毒组。在不同功率紫外灯辐射0、1、3和5min后，将营养琼脂平板打开皿盖置于不同尺寸装置内，在空气中暴露5min，盖上皿盖，将平板倒转，置于37℃恒温培养箱中培养24h后计数菌落数。

3.根据权利要求2所述的消毒装置的制作，其特征在于步骤(1)中：紫外灯采用不同功率紫外灯(4-100W，254nm)及雾化H₂O₂。

4.根据权利要求2所述的H₂O₂的累积过程，其特征在于步骤(4)中：使用炭黑/石墨空气呼吸电极作为阴极在20mA cm^-2，50mM Na₂SO₄(pH＝7)作电解质溶液条件下原位生成H₂O₂，积累的H₂O₂用于UV/H₂O₂消毒。