[发明专利]荧光/PET双模态影像探针及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种荧光/PET双模态影像探针，其特征在于，以可降解的空心介孔有机硅作为载体，所述空心介孔有机硅负载荧光素和核素。

2.根据权利要求1所述的荧光/PET双模态影像探针，其特征在于，所述荧光素和核素嫁接在所述空心介孔有机硅上；

优选的，所述荧光素包括FITC、Cy5.5、IR780或Alexa488中的任意一种；

优选的，所述核素包括⁶⁴Cu、⁸⁹Zr、⁶⁸Ga或⁸⁶Y中的任意一种。

3.根据权利要求1或2所述的荧光/PET双模态影像探针，其特征在于，所述空心介孔有机硅负载荧光素FITC和核素⁶⁴Cu；

优选的，所述荧光素FITC和核素⁶⁴Cu嫁接在所述空心介孔有机硅上；

优选的，所述空心介孔有机硅为含有双硫键的空心介孔有机硅；

优选的，所述空心介孔有机硅的水合动力学粒径为175-225nm；

优选的，所述空心介孔有机硅负载药物；

优选的，所述药物负载在所述空心介孔有机硅的空腔内；

优选的，所述药物包括化疗药物；

优选的，所述荧光/PET双模态影像探针的粒径为150-200nm。

4.权利要求1-3任意一项所述的荧光/PET双模态影像探针的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将荧光素和核素负载在空心介孔有机硅上，得到荧光/PET双模态影像探针。

5.根据权利要求4所述的荧光/PET双模态影像探针的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(a)采用氨基硅烷偶联剂对空心介孔有机硅进行改性，得到氨基改性空心介孔有机硅；

(b)将氨基改性空心介孔有机硅、荧光素和第一溶剂混合，使进行避光反应，得到荧光素修饰的空心介孔有机硅；

(c)将荧光素修饰的空心介孔有机硅、双功能螯合剂p-SCN-Bn-NOTA和第二溶剂混合，使进行反应，得到NOTA/荧光素修饰的空心介孔有机硅；

(d)将NOTA/荧光素修饰的空心介孔有机硅、核素溶液和第三溶剂混合，使进行反应，以使空心介孔有机硅上负载有荧光素和核素，得到荧光/PET双模态影像探针。

6.根据权利要求5所述的荧光/PET双模态影像探针的制备方法，其特征在于，步骤(a)中，所述氨基硅烷偶联剂包括(3-氨丙基)三甲氧基硅烷和/或(3-氨基丙基)三乙氧基硅烷；

优选的，所述氨基硅烷偶联剂的质量为空心介孔有机硅质量的0.1-0.5％；

优选的，所述空心介孔有机硅的制备方法包括以下步骤：

将实心二氧化硅、造孔剂、催化剂和有机硅源反应，得到介孔有机硅包覆的实心二氧化硅，然后采用刻蚀剂对介孔有机硅包覆的实心二氧化硅进行刻蚀，得到空心介孔有机硅；

优选的，所述造孔剂包括十六烷基三甲基氯化铵和/或十六烷基三甲基溴化铵；

优选的，所述催化剂包括三乙醇胺或氨水；

优选的，所述有机硅源包括双-[γ-(三乙氧基硅)丙基]-双硫化物和/或双-[γ-(三乙氧基硅)丙基]-四硫化物；

优选的，所述刻蚀剂包括氢氟酸、氢氧化钠、碳酸钠或氨水中的任意一种或至少两种的组合。

7.根据权利要求5所述的荧光/PET双模态影像探针的制备方法，其特征在于，步骤(b)中，氨基改性空心介孔有机硅和荧光素的质量比为(99.0-99.5)：(0.5-1.0)；

优选的，所述第一溶剂包括乙醇；

优选的，避光反应的温度为20-30℃，避光反应的时间为12-24h。