[发明专利]一种MEMS结构及其制造方法在审
| 申请号： | 202110663840.6 | 申请日： | 2021-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN113301484A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 夏永禄;刘端 | 申请（专利权）人： | 安徽奥飞声学科技有限公司 |
| 主分类号： | H04R19/00 | 分类号： | H04R19/00;H04R19/04;H04R31/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230092 安徽省合肥市高新区习友路333*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 mems 结构 及其 制造 方法 | ||
1.一种MEMS结构，其特征在于，包括：
衬底，具有空腔；
压电复合振动层，形成在所述衬底上方并且覆盖所述空腔，其中，在空腔上方的压电复合振动层具有间隙，所述间隙从所述压电复合振动层的上表面延伸穿透至所述压电复合振动层的下表面，并且所述间隙与所述空腔连通，所述间隙将所述压电复合振动层分割为外围的悬臂梁膜和中心的振膜。
2.根据权利要求1所述的MEMS结构，其特征在于，所述压电复合振动层包括：
支撑层，形成在所述衬底上方，并且覆盖所述空腔；
第一电极层，形成在所述支撑层上方；
第一压电层，形成在所述第一电极层上方；
第二电极层，形成在所述第一压电层上方，
其中，所述间隙从所述第二电极层的上表面延伸至所述支撑层的下表面。
3.根据权利要求1所述的MEMS结构，其特征在于，所述振膜经均匀设置的支角固定于所述衬底上方。
4.根据权利要求3所述的MEMS结构，其特征在于，所述悬臂梁膜均匀间隔设置，并且所述悬臂梁膜呈扇形。
5.根据权利要求3所述的MEMS结构，其特征在于，所述悬臂梁膜均匀间隔设置，并且所述悬臂梁膜呈圆弧状、椭圆形、三角形或其他多边形。
6.一种MEMS结构的制造方法，其特征在于，包括：
提供衬底；
在所述衬底上方依次形成支撑层、第一电极层、第一压电层和第二电极层，并且形成从所述第二电极层的上表面延伸至所述支撑层的下表面的间隙；
从所述衬底的底部蚀刻所述衬底以形成空腔，并且所述空腔与所述间隙连通。
7.根据权利要求6所述的MEMS结构的制造方法，其特征在于，在形成所述支撑层之前，在所述衬底上方形成蚀刻停止层，所述蚀刻停止层在形成空腔之后被去除。
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