[发明专利]一种蓝光薄膜及其制备方法、蓝光器件及其制备方法

权利要求书

1.一种蓝光薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

S1：制备全无机钙钛矿前驱体溶液；具体包括：将无机原料与大分子配体PEABr同时溶于DMSO中，通过调整所述无机原料和所述大分子配体的配比，来优化整体发光器件性能；所述无机原料包括CsCl、CsBr和PbBr2；所述大分子配体PEABr的占比为60％；

S2：基于所述全无机钙钛矿前驱体溶液利用配体辅助再沉淀法制备全无机蓝光钙钛矿薄膜。

2.一种蓝光薄膜，其特征在于，所述蓝光薄膜为根据权利要求1制备的全无机蓝光钙钛矿薄膜。

3.一种蓝光器件，其特征在于，所述蓝光器件包括发光层，所述发光层为如权利要求1所述的全无机蓝光钙钛矿薄膜。

4.一种蓝光器件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：制备全无机钙钛矿前驱体溶液；具体包括：将无机原料与大分子配体PEABr同时溶于DMSO中，通过调整所述无机原料和所述大分子配体的配比，来优化整体发光器件性能；所述无机原料包括CsCl、CsBr和PbBr2；所述大分子配体PEABr的占比为60％；

S2：基于所述全无机钙钛矿前驱体溶液利用配体辅助再沉淀法制备全无机蓝光钙钛矿薄膜；

S3：将所述全无机蓝光钙钛矿薄膜作为发光层制备蓝光器件；

步骤S2包括以下步骤：S201：将透明导电的衬底按先后顺序依次置于去离子水、丙酮、乙醇和去离子水中进行超声清洗，使用氮气吹干清洗后的所述衬底后，将所述衬底转移至氧等离子清洗机内，在真空条件下对所述衬底表面进行氧等离子清洗；

步骤S3包括：S301：在所述步骤S201中氧等离子处理后的衬底上旋涂PEDOT:PSS溶液，并进行退火处理；放至室温冷却后，在PEDOT:PSS层上旋涂PVK溶液，再一次进行退火处理后放至室温冷却后得到PVK层；再将上述制备所得放入等离子体处理机，进行等离子体处理后制得空穴传输-电子阻挡层。

5.如权利要求4所述的蓝光器件的制备方法，其特征在于，所述步骤S2还包括步骤S202：

S202：利用旋涂法制备空穴传输-电子阻挡层；在所述空穴传输-电子阻挡层上原位生长钙钛矿量子点层，同时在预设时间内滴加反溶剂，制成全无机蓝光钙钛矿薄膜。

6.如权利要求5所述的蓝光器件的制备方法，其特征在于，步骤S3包括以下步骤：

S302：将制备好的所述空穴传输-电子阻挡层转移至氮气手套箱中，根据步骤S202制作所述的全无机钙钛矿蓝光薄膜；

将制备好的全无机蓝光钙钛矿薄膜转移至真空蒸镀仪进行电子传输-空穴阻挡层的制备；

S303：在所述电子传输-空穴阻挡层蒸镀结束后进行顶电极的制备；完成所述蓝光器件的制备；

S304：测试所述蓝光器件的电流-电压-外量子效率特性。