[发明专利]一种氟化锑烯被动调Q激光器在审
| 申请号: | 202110650554.6 | 申请日: | 2021-06-10 |
| 公开(公告)号: | CN113497405A | 公开(公告)日: | 2021-10-12 |
| 发明(设计)人: | 张光举 | 申请(专利权)人: | 张光举 |
| 主分类号: | H01S3/098 | 分类号: | H01S3/098 |
| 代理公司: | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人: | 孙续 |
| 地址: | 100000 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 氟化 被动 激光器 | ||
1.一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:它包括泵浦光源(1)和沿光路依次置的泵浦光耦合系统及谐振腔,所述谐振腔包括沿光路依次置的平凹镜(4)、透射式氟化锑烯可饱和吸收体(6)和平面输出镜(7),所述平凹镜(4)和透射式氟化锑烯可饱和吸收体(6)之间设置有增益介质(5)。
2.根据权利要求1所述的一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:所述泵浦光源(1)为光纤耦合半导体激光器。
3.根据权利要求2所述的一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:所述光纤耦合半导体激光器输出的泵浦光中心波长为808nm。
4.根据权利要求1所述的一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:所述泵浦光耦合系统包括依次设置的第一平凸透镜(2)和第二平凸透镜(3),所述第一平凸透镜(2)和第二平凸透镜(3)焦距相等。
5.根据权利要求1所述的一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:所述增益介质(5)为Nd:LuAG晶体。
6.根据权利要求1所述的一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:所述增益介质(5)中的光腰位置与泵浦光入射面之间的距离为2mm。
7.根据权利要求1所述的一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:所述谐振腔在透射式氟化锑烯可饱和吸收体(6)的表面模式半径范围为60~100μm。
8.根据权利要求1所述的一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:所述透射式氟化锑烯可饱和吸收体(6)对1064nm光的调制深度为0.2456,饱和光强为0.11MW/cm2。
9.根据权利要求1所述的一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:所述平凹镜(4)的曲率半径为50mm,所述平凹镜(4)为808nm光高透、1064nm光高反的平凹镜。
10.根据权利要求1所述的一种氟化锑烯被动调Q激光器,其特征在于:所述平面输出镜(7)对1064nm光的透过率为1.4%。
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