[发明专利]方向图修正的立体结构

说明书

本发明提供一种方向图修正的立体结构，包括：公共接地板，所述公共接地板上设置有介质基板；两组天线组件，两组所述天线组件对称设置在所述介质基板上；金属墙，所述金属墙垂直贯穿所述介质基板，并与所述公共接地板连接，所述金属墙位于两组所述天线组件之间；所述金属墙的两个相对表面分别对称设置有两个尺寸相同的金属条带，两个所述金属条带邻近设置，其中一个所述金属条带位于所述金属墙远离所述天线组件的馈电端的一端，且两个所述金属条带上均设有缝隙。本发明提供的方向图修正的立体结构，不仅达到了较好的去耦效果而且还修正了天线的H面辐射方向图。

技术领域

本发明涉及天线技术领域，尤其涉及一种方向图修正的立体结构。

背景技术

如今，5G技术的迅速发展对于天线小型化的要求越来越高，但是在实际工程应用中，为满足小型化的要求，阵元间的间距一般都不会太大(小于0.5λ₀)，因此不可避免的会产生相互影响从而影响天线的性能。互耦效应的存在会导致阵元的增益降低，方向图恶化等。

为了减少天线之间的耦合，现阶段采取的技术方法主要分为两大类，第一类是平面去耦结构，如在天线的接地板上开缝形成缺陷地结构从而抑制电流以实现去耦的目的，在天线单元之间加入谐振结构或超材料以此来抑制表面波；第二类是立体去耦结构，即通过引入额外路径的耦合来抵消原来的耦合，从而实现天线之间的去耦合。但是无论哪种方法，现阶段的这些技术都面临着方向图偏移的问题。

发明内容

本发明提供一种方向图修正的立体结构，用以解决现有技术中天线方向图偏移的缺陷。

本发明提供一种方向图修正的立体结构，包括：公共接地板，所述公共接地板上设置有介质基板；两组天线组件，两组所述天线组件对称设置在所述介质基板上；金属墙，所述金属墙垂直贯穿所述介质基板，并与所述公共接地板连接，所述金属墙位于两组所述天线组件之间；所述金属墙的两个相对表面分别对称设置有两个尺寸相同的金属条带，两个所述金属条带邻近设置，其中一个所述金属条带位于所述金属墙远离所述天线组件的馈电端的一端，且两个所述金属条带上均设有缝隙。

根据本发明提供的一种方向图修正的立体结构，所述缝隙包括彼此垂直设置并连接的第一缝隙和第二缝隙，所述第二缝隙沿所述金属条带的长度方向设置，其一端与所述金属条带的顶端持平。

根据本发明提供的一种方向图修正的立体结构，所述金属条带的宽度为3.9mm。

根据本发明提供的一种方向图修正的立体结构，两个所述金属条带之间的间距为4.5mm。

根据本发明提供的一种方向图修正的立体结构，所述第一缝隙和所述第二缝隙的宽度均为0.4mm。

根据本发明提供的一种方向图修正的立体结构，所述金属墙包括：两层介质层以及夹设在所述介质层中间的金属层，每个所述介质层上设置有两个所述金属条带。

根据本发明提供的一种方向图修正的立体结构，所述介质层的宽度为7.7mm，所述介质层的长度为24mm。

根据本发明提供的一种方向图修正的立体结构，所述介质层的有效介电常数为4.4，所述介质层的损耗角正切为0.025，所述介质层的厚度为0.4mm。

根据本发明提供的一种方向图修正的立体结构，每组所述天线组件包括：依次连接的辐射贴片、四分之一波长阻抗变换器和微带线，所述金属墙与所述辐射贴片和所述四分之一波长阻抗变换器相对设置。

根据本发明提供的一种方向图修正的立体结构，两个所述辐射贴片之间的距离为3.1mm。

本发明提供的方向图修正的立体结构，通过在金属墙的相对两侧设置两个金属条带，并在金属条带上设置缝隙，修正了天线的H面辐射方向图。同时，本发明提供的方向图修正的立体结构，还抑制了天线之间的耦合，使天线阻抗匹配变好。

附图说明