[发明专利]一种CO2有效

专利信息
申请号: 202110642273.6 申请日: 2021-06-09
公开(公告)号: CN113296178B 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 张传超;王海军;陈静;蒋晓龙;方振华;廖威;张丽娟;蒋晓东;朱启华 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;B23K26/362
代理公司: 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙) 50216 代理人: 蔡冬彦
地址: 621900 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 co base sub
【权利要求书】:

1.一种CO2激光在熔石英表面直接制备正弦相位光栅的方法,其特征在于,按照以下步骤进行:

S1、根据需要成型的正弦相位光栅的参数,设定CO2激光器的参数;

当CO2激光器发射一个单脉冲CO2激光束聚焦辐照熔石英表面时,烧蚀形成的高斯型烧蚀凹坑为点状结构,各点状结构的高斯型烧蚀凹坑共同构成二维正弦相位光栅;各所述高斯型烧蚀凹坑或呈矩阵分布,且各高斯型烧蚀凹坑周围均匀分布有四个呈正方形排布的高斯型烧蚀凹坑;各所述高斯型烧蚀凹坑或呈二维阵列分布,且各高斯型烧蚀凹坑周围均匀分布有六个呈正六边形排布的高斯型烧蚀凹坑;其中,CO2激光器的参数为:激光的功率为200W、脉宽为20μs、频率为200Hz、聚焦光斑尺寸直径为 220μm、扫描速度24mm/s;

S2、CO2激光器发射CO2激光束聚焦辐照熔石英表面一次,在熔石英表面烧蚀形成一个表面光滑的高斯型烧蚀凹坑;

S3、利用显微镜和台阶仪检测步骤S2形成的高斯型烧蚀凹坑的表面形貌和轮廓是否无烧蚀沉积:否,调整CO2激光器的参数,重新发射CO2激光束烧蚀熔石英表面形成新的高斯型烧蚀凹坑,并重复检测新形成的高斯型烧蚀凹坑,直到该高斯型烧蚀凹坑的表面形貌和轮廓无烧蚀沉积;是,进入下一步骤;

S4、在上一步骤烧蚀形成的高斯型烧蚀凹坑旁,依次按步骤S2和步骤S3在熔石英表面烧蚀形成一个相邻的高斯型烧蚀凹坑;

S5、重复步骤S4,直到各高斯型烧蚀凹坑构成预设的正弦相位光栅;当各高斯型烧蚀凹坑周围均匀分布有四个呈正方形排布的高斯型烧蚀凹坑时,熔石英的表面规格为10mm×10mm,制得的间距为120μm的呈矩阵分布的高斯型烧蚀凹坑构成的二维正弦相位光栅;当各高斯型烧蚀凹坑周围均匀分布有六个呈正六边形排布的高斯型烧蚀凹坑时,熔石英的表面规格为10mm×10mm,制得的间距为103.9μm的呈矩阵分布的高斯型烧蚀凹坑构成的二维正弦相位光栅;

S6、当各高斯型烧蚀凹坑周围均匀分布有四个呈正方形排布的高斯型烧蚀凹坑时,采用光斑品质分析仪测试制作的呈矩阵分布的二维正弦相位光栅的分束效果,衰减的He-Ne激光束照射制作的二维正弦相位光栅,再利用焦距为100mm凸透镜把分开的光束聚焦在光斑品质分析仪的感光面上,各高斯型烧蚀凹坑呈矩阵分布的二维正弦相位光栅把入射光束分成矩阵排列的光束;当各高斯型烧蚀凹坑周围均匀分布有六个呈正六边形排布的高斯型烧蚀凹坑时,采用光斑品质分析仪测试制作的正六边形排布的二维正弦相位光栅的分束效果,衰减的He-Ne激光束照射制作的二维正弦相位光栅,再利用焦距为100mm凸透镜把分开的光束聚焦在光斑品质分析仪的感光面上,各高斯型烧蚀凹坑正六边形排布的二维正弦相位光栅把入射光束分成正六边形排布的光束;

S7、当各高斯型烧蚀凹坑周围均匀分布有四个呈正方形排布的高斯型烧蚀凹坑时,衰减的He-Ne激光束照射二维正弦相位光栅,二维正弦位光栅置于焦距分别为500mm和1500mm两个凸透镜组成的4F光学系统的物平面处,在4F光学系统的频谱面上取绕着0级光束的等强的4束呈矩阵分布的光束,光斑品质分析仪在4F光学系统的相平面处探测的光强分布为典型的呈矩阵分布的干涉点阵;当各高斯型烧蚀凹坑周围均匀分布有六个呈正六边形排布的高斯型烧蚀凹坑时,衰减的He-Ne激光束照射二维正弦相位光栅,二维正弦位光栅置于焦距分别为500mm和1500mm两个凸透镜组成的4F光学系统的物平面处,在4F光学系统的频谱面上取绕着0级光束的等强的4束呈正六边形排布的光束,光斑品质分析仪在4F光学系统的相平面处探测的光强分布为典型的正六边形排布的干涉点阵。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110642273.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top