[发明专利]掩模干燥装置

说明书

公开了一种掩模干燥装置。所述掩模干燥装置包括：腔室；等离子体产生部件，连接于腔室的一侧壁；第一干燥部件，布置在垂直于一侧壁的腔室的下部壁；掩模固定部件，固定掩模；以及旋转部件，连接于掩模固定部件，其中，掩模固定部件能够借由旋转部件而在等离子体产生部件与第一干燥部件之间旋转。

技术领域

本发明涉及一种掩模干燥装置以及掩模清洗系统，更加详细地，涉及一种利用等离子体的掩模干燥装置以及掩模清洗系统。

背景技术

在制造显示装置的过程中，可以使用掩模。可以通过所述掩模将沉积物质以期望的图案沉积在基板等。在沉积过程中，在掩模沾有异物的情形下，可能由于所述异物而无法将所述沉积物质以期望的图案沉积到所述基板。因此，有必要清洗所述掩模。在进行清洗之后，需要确保残留在所述掩模的清洗液、水分等完全干燥才能利用所述掩模顺利地进行所述沉积过程。

现有的干燥过程是在将挥发性化学物质涂覆在所述掩模后利用空气干燥器来进行的。在此情形下，存在所述挥发性化学物质爆炸的危险，并且存在管理所述挥发性化学物质的成本高等缺点。

因此，正在大量进行着关于通过新的方式进行所述干燥过程的研究。

发明内容

本发明的技术问题是基于这些问题而构思的，本发明的目的在于提供一种包括等离子体装置的掩模干燥装置。

本发明的目的在于提供一种包括等离子体装置的掩模清洗系统。

然而，本发明要解决的技术问题并不限于上述提及的技术问题，并且可以在不脱离本发明的构思和领域的范围内以各种方式扩展。

根据用于实现上述本发明的目的的实施例的掩模干燥装置可以包括：腔室；等离子体产生部件，连接于所述腔室的一侧壁；第一干燥部件，布置在垂直于所述一侧壁的所述腔室的下部壁；掩模固定部件，固定掩模；以及旋转部件，连接于所述掩模固定部件，其中，所述掩模固定部件能够借由所述旋转部件而在所述等离子体产生部件与所述第一干燥部件之间旋转。

在实施例中，所述第一干燥部件可以包括卤素灯。

在实施例中，所述第一干燥部件可以包括加热器。

在实施例中，所述加热器可以包括加热线圈。

在实施例中，所述第一干燥部件可以产生微波。

在实施例中，在所述等离子体产生部件和所述掩模固定部件平行地排列时，所述等离子体产生部件与所述掩模之间的距离可以为5mm至15mm。

在实施例中，在所述第一干燥部件和所述掩模固定部件平行地排列时，所述第一干燥部件与所述掩模之间的距离可以为5mm至15mm。

在实施例中，所述等离子体产生部件可以包括紫外线灯。

在实施例中，所述等离子体产生部件可以包括多个等离子体头。

在实施例中，所述腔室可以包括惰性气体。

在实施例中，所述等离子体产生部件可以产生氧自由基和氮自由基中的至少一种。

在实施例中，所述氧自由基和所述氮自由基中的至少一种与所述惰性气体的反应可以在常温和常压下进行。

在实施例中，所述等离子体产生部件和所述第一干燥部件可以彼此垂直地布置。

在实施例中，在所述第一干燥部件和所述掩模固定部件平行地排列时，所述掩模和所述第一干燥部件可以重叠。

在实施例中，还可以包括布置在与所述下部壁对向的所述腔室的上部壁的第二干燥部件。

在实施例中，所述第二干燥部件可以与所述第一干燥部件平行地布置。