[发明专利]一种超宽截止的六氟化硫红外滤光片及其制备方法有效

申请号：	202110622694.2	申请日：	2021-06-04
公开（公告）号：	CN113341491B	公开（公告）日：	2022-05-17
发明（设计）人：	侯海港;刘军林;乔冠军;刘桂武;郝俊操;崔智超	申请（专利权）人：	微集电科技（苏州）有限公司
主分类号：	G02B5/20	分类号：	G02B5/20;G02B5/28;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/30;C23C14/26
代理公司：	合肥市泽信专利代理事务所(普通合伙) 34144	代理人：	方荣肖
地址：	215002 江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区***	国省代码：	江苏;32
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摘要：
搜索关键词：	一种截止六氟化硫红外滤光及其制备方法
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【权利要求书】：

1.一种超宽截止的六氟化硫红外滤光片，其特征在于：其包括：

基板，其为单晶Si基板；

主膜系面薄膜，其设置在所述基板的一侧表面上；

干涉截止膜系面薄膜，其设置在所述基板的相对另一侧表面上；

其中，所述主膜系面薄膜采用窄带与干涉截止膜系交错叠加且相互之间通过匹配层隔开的方式构成，所述主膜系面薄膜的最内层和最外层分别为Ge镀膜材料的高折射率材料层、ZnS镀膜材料的低折射率材料层；所述干涉截止膜系面薄膜最内层和最外层也分别为Ge镀膜材料的高折射率材料层、ZnS镀膜材料的低折射率材料层；

所述窄带的薄膜结构为Sub/(HL)² 6H(LH)² L(HL)4H(LH)L(HL)6H(LH)L/Air，所述干涉截止膜系的薄膜结构为Sub/0.16(HL)⁴ 0.230(HL)⁴0.32(HL)⁶/Air；所述干涉截止膜系面薄膜的薄膜结构为Sub0.5(0.5HL0.5H)²0.62(0.5HL0.5H)² 0.773(0.5HL 0.5H)³ 1.285(0.5LH0.5L)⁴/Air；

膜系中符号含义分别为：Sub为基板，Air为空气，H和L分别代表Ge镀膜材料的高折射率材料层和ZnS镀膜材料的低折射率材料层的一个1/4波长光学厚度，中心波长λ＝10640nm，1H＝(4n_H d)/λ；1L＝(4n_L d)/λ，结构式中数字为膜层的厚度系数、结构式中的指数是膜堆镀膜的周期数。

2.根据权利要求1所述的超宽截止的六氟化硫红外滤光片，其特征在于，所述基板双面抛光，厚度300±10μm，晶向100。

3.根据权利要求1所述的超宽截止的六氟化硫红外滤光片，其特征在于，

所述红外滤光片具备以下特征：

(1)中心波长λ＝10640nm；

(2)带宽Δλ＝390nm；

(3)波形系数Δλ10％/Δλ50％＝1.426；

(4)峰值透过率Tp＝94.6％；

除通带外1100～13000nm T_avg≤0.5％。

4.根据权利要求1所述的超宽截止的六氟化硫红外滤光片，其特征在于，所述主膜系面薄膜和所述干涉截止膜系面薄膜均通过沉积的方式设置在所述基板的相对两侧表面上。

5.根据权利要求4所述的超宽截止的六氟化硫红外滤光片，其特征在于，沉积时采用真空热蒸发薄膜沉积法。

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