[发明专利]电子设备、壳体、膜片及其制备方法

权利要求书

1.一种膜片，其特征在于，所述膜片包括：

透明膜片基材；

UV胶实体，设于所述透明膜片基材的表面；其中，所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面设有纹理结构，所述UV胶实体的透过率大于等于85％；

光学膜层，设于所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面，并覆盖所述纹理结构，所述光学膜层的厚度为200～350nm；

增亮膜层，设于所述纹理结构和所述光学膜层之间，所述增亮膜层的厚度小于16nm；

其中，所述纹理结构为锯齿状，相邻锯齿状表面的夹角大于等于165度，所述纹理结构的相邻波峰之间的间距大于0.05mm，小于等于0.2mm；所述UV胶实体为锥体结构。

2.根据权利要求1所述膜片，其特征在于，所述UV胶实体通过转印的方式形成于所述透明膜片基材的表面。

3.根据权利要求1所述膜片，其特征在于，所述膜片还包括油墨层，所述油墨层覆盖所述光学膜层以及所述透明膜片基材设置所述UV胶实体的一侧表面。

4.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括基板以及权利要求1-3任一项所述的膜片，所述膜片设于所述基板上。

5.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括显示屏模组、控制电路板以及权利要求4所述的壳体，所述显示屏模组与所述壳体配合形成容置空间，所述控制电路板设于所述容置空间，并与所述显示屏模组电性连接。

6.一种膜片的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

在透明膜片基材上转印胶水；

对胶水进行UV固化，进而形成UV胶实体，其中，所述UV胶实体的非与所述透明膜片基材接触的表面设有纹理结构，所述UV胶实体的透过率大于等于85％；

在所述UV胶实体的表面形成光学膜层；其中，所述光学膜层覆盖所述纹理结构，所述光学膜层的厚度为200～300nm；所述纹理结构和所述光学膜层之间设置有增亮膜层，所述增亮膜层的厚度小于16nm；

其中，所述纹理结构为锯齿状，相邻锯齿状表面的夹角大于等于165度，所述纹理结构的相邻波峰之间的间距大于0.05mm，小于等于0.2mm；所述UV胶实体为锥体结构。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括步骤：

在所述光学膜层的表面以及所述透明膜片基材设置所述UV胶实体的一侧表面形成油墨层。