[发明专利]校准OM和SEM坐标关系的方法和装置、设备和存储介质

权利要求书

1.一种校准OM和SEM坐标关系的方法，其特征在于，包括：

读取由同一标准片中选取的同一标记点在工作台上的位置和标记图案；

其中，所述标记点在所述工作台上的位置包括：OM模式下的第一位置和SEM模式下的第二位置；

所述标记图案包括：OM模式下的OM标记图案和SEM模式下的SEM标记图案；

在OM模式下获取OM图像；其中，所述OM图像为控制所述工作台移动至所述第一位置处后拍照得到的图像；

根据所述OM标记图案和所述OM图像得到第一标记点偏移量；

在SEM模式下获取SEM图像；所述SEM图像为控制所述工作台移动至所述第二位置处后拍照得到的图像；

根据所述SEM标记图案和所述SEM图像得到第二标记点偏移量；

通过所述第一标记点偏移量和所述第二标记点偏移量得到所述OM和SEM坐标关系；

其中，在通过所述第一标记点偏移量和所述第二标记点偏移量得到所述OM和SEM坐标关系时包括：

根据所述第一标记点偏移量的X值、所述OM图像的像素尺寸的X值和所述OM标记图案的位置的X值得到OM横向偏移量；

根据所述第一标记点偏移量的X值、所述SEM图像的像素尺寸的X值和所述SEM标记图案的位置的X值得到SEM横向偏移量；

根据所述第一标记点偏移量的Y值、所述OM图像的像素尺寸的Y值和所述OM标记图案的位置的Y值得到OM纵向偏移量；

根据所述第一标记点偏移量的Y值、所述SEM图像的像素尺寸的Y值和所述SEM标记图案的位置的Y值得到SEM纵向偏移量；

通过所述OM横向偏移量、所述SEM横向偏移量、所述OM纵向偏移量和所述SEM纵向偏移量得到所述OM和SEM坐标关系。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述标记点为由所述标准片中选取的具有唯一标识性的图案；

所述图案为单个图形和图形阵列中的至少一种。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，根据所述OM标记图案和所述OM图像得到第一标记点偏移量包括：

将所述OM标记图案和所述OM图像进行图像匹配得到第一相似度；

根据所述第一相似度得到所述第一标记点偏移量。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，根据所述SEM标记图案和所述SEM图像得到第二标记点偏移量包括：

将所述SEM标记图案和所述SEM图像进行图像匹配得到第二相似度；

根据所述第二相似度得到所述第二标记点偏移量。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过所述OM横向偏移量、所述SEM横向偏移量、所述OM纵向偏移量和所述SEM纵向偏移量得到所述OM和SEM坐标关系包括：

所述OM横向偏移量减去所述SEM横向偏移量得到OM和SEM横向坐标关系；

所述OM纵向偏移量减去所述SEM纵向偏移量得到OM和SEM纵向坐标关系；

通过所述OM和SEM横向坐标关系和所述OM和SEM纵向坐标关系得到所述OM和SEM坐标关系。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，获取所述OM图像的像素尺寸和所述SEM图像的像素尺寸时包括通过像素尺寸校准的方式对所述OM图像的像素尺寸和所述SEM图像的像素尺寸进行校准的步骤。