[发明专利]量子点色转换层的制备方法

说明书

本发明提供一种量子点色转换层的制备方法，包括如下步骤：S1、在透明基底上制备凹槽；S2、在透明基底上涂覆量子点溶液，基于液体的流动性，使得量子点溶液充满凹槽；S3、将量子点溶液固化为量子点层；S4、去除透明基底表面的量子点层，使保留在凹槽内的量子点层成为独立的量子点；S5、重复步骤S1～S4制备不同颜色的量子点，形成量子点色转换层。该制备方法工艺简单、操作简便、成本低，可实现10μm以下小尺寸像素的色转换层制备，且不掺杂光刻剂，不会因量子点发生退化导致转化效率降低，避免造成量子点的浪费。

技术领域

本发明涉及Micro LED技术领域，特别涉及一种量子点色转换层的制备方法。

背景技术

Micro LED显示被誉为继LED和OLED之后的下一代显示技术。制备工艺的瓶颈问题导致Micro LED技术的实际应用受到限制。采用蓝光LED作为激发光源及量子点色转换层实现全彩色显示，是一种有效的技术路线。目前，制备高密度、微像素尺寸的量子点色转换层主要有喷墨打印和光刻胶掺杂图形化两种方法。喷墨打印方法能够实现最小像素尺寸为30μm左右的色转换层制备，当像素尺寸进一步缩小时，喷墨打印方法无法满足要求。而光刻胶掺杂图形化方法虽然可以实现10μm以下小尺寸像素的色转化层制备，但是掺杂的光刻剂容易使量子点退化，降低其转化效率，造成大量的量子点浪费。

发明内容

本发明的目的是为了克服已有技术的缺陷，提出一种量子点色转换层的制备方法，能够实现10μm以下小尺寸像素的色转化层制备，且不会降低其转化效率。

为实现上述目的，本发明采用以下具体技术方案：

本发明提供的量子点色转换层的制备方法，包括如下步骤：

S1、在透明基底上制备凹槽；

S2、在透明基底上涂覆量子点溶液，基于液体的流动性，使得量子点溶液充满凹槽；

S3、将量子点溶液固化为量子点层；

S4、去除透明基底表面的量子点层，使保留在凹槽内的量子点层成为独立的量子点；

S5、重复步骤S1～S4制备不同颜色的量子点，形成量子点色转换层。

优选地，在步骤S1中，采用光刻、刻蚀、激光加工、机械钻孔、热压、电火花方法在透明基底上制备凹槽。

优选地，在步骤S2中，量子点溶液的液体成份为硅胶、环氧树脂、紫外固化胶或热固化胶。

优选地，在步骤S3中，量子点溶液的固化方式为静置、加热或者紫外光照射。

优选地，在步骤S4中，量子点层的去除方式为研磨、激光清洗或离子束抛光。

优选地，在步骤S2中，量子点溶液的涂覆方式为旋涂或喷涂。

优选地，在步骤S1中，透明基底为玻璃、亚克力板或石英。

本发明能够取得如下技术效果：

该制备方法工艺简单、操作简便、成本低，可实现10μm以下小尺寸像素的色转换层制备，且不掺杂光刻剂，不会因量子点发生退化导致转化效率降低，避免造成量子点的浪费。

附图说明

图1是根据本发明提供的量子点色转换层的制备方法的流程示意图；

图2是根据本发明实施例1提供的量子点色转换层的制备方法的制备过程示意图；

图3是根据本发明实施例2提供的MicroLED显示器件的结构示意图。