[发明专利]发光参数的调整方法、装置、存储介质及电子装置有效

专利信息
申请号: 202110605458.X 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN113299231B 公开(公告)日: 2023-02-24
发明(设计)人: 刘硕;刘晓沐;王松;俞克强;朱国卿;张晴晴;涂永亮 申请(专利权)人: 浙江大华技术股份有限公司
主分类号: G09G3/32 分类号: G09G3/32
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 赵静
地址: 310051 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 参数 调整 方法 装置 存储 介质 电子
【说明书】:

发明实施例提供了一种发光参数的调整方法、装置、存储介质及电子装置,其中,该方法包括:获取目标显示设备的目标图像,目标图像是对处于目标显示状态的目标显示设备进行拍摄所得到的,目标显示设备包含至少两个拼接的显示单元,每个显示单元中包括有多个发光器件,目标显示状态为控制多个发光器件中包括的按照预定间隔排布的目标发光器件发光;基于获取的目标图像确定出目标发光器件的坐标;基于目标发光器件的坐标确定出显示单元之间的拼接区域的修正系数;基于修正系数对处于拼接区域的发光器件的发光参数进行调整。通过本发明,解决了相关技术中存在的对显示设备拼接区域的发光参数的调整效率低的问题,达到了提高调整效率的效果。

技术领域

本发明实施例涉及电子技术领域,具体而言,涉及一种发光参数的调整方法、装置、存储介质及电子装置。

背景技术

LED显示屏屏幕可以根据环境等因素由若干个LED箱体或LED显示模块(此处统称为显示单元)拼接而成的,每一个显示单元都可以在工厂内进行校正,保证出厂时LED显示屏的亮色度均匀性良好,而在拼接的过程中,由于机械加工精度、拼装精度等工艺原因的限制,会存在显示单元间的拼接不均匀情况,导致拼接处两侧相邻边缘的LED灯点之间的距离可能大于或小于显示单元内灯点的间距,此时,该处的LED灯点发光密度将会发生变化,导致人眼观看时会出现一条亮线或者暗线,称为LED显示屏拼接亮暗线,简称为拼接亮暗线。相关技术中通过人眼观察拼接亮暗线的位置和强度,手动调整拼缝两侧灯点的修正系数来降低亮暗线影响,这种对显示屏拼接区域的发光参数的调整方法不仅效率低,且对于一整条拼缝采用单一的修正系数,过于粗暴,亮暗线去除的不够干净。

针对相关技术中存在的对显示设备拼接区域的发光参数的调整效率低的问题,目前尚未提出有效的解决方案。

发明内容

本发明实施例提供了一种发光参数的调整方法、装置、存储介质及电子装置,以至少解决相关技术中存在的对显示设备拼接区域的发光参数的调整效率低的问题。

根据本发明的一个实施例,提供了一种发光参数的调整方法,包括:获取目标显示设备的目标图像,其中,所述目标图像是由目标拍摄设备对处于目标显示状态的所述目标显示设备进行拍摄所得到的,所述目标显示设备包含至少两个拼接的显示单元,每个所述显示单元中包括有多个发光器件,所述目标显示状态为控制多个所述发光器件中包括的目标发光器件发光,所述目标发光器件数量为多个且是按照预定间隔排布的;基于获取的所述目标图像确定出所述目标发光器件的坐标;基于所述目标发光器件的坐标确定出所述显示单元之间的拼接区域的修正系数;基于所述修正系数对处于所述拼接区域的发光器件的发光参数进行调整。

在一个示例性实施例中,基于获取的所述目标图像确定出所述目标发光器件的坐标包括:确定所述目标图像中包括的处于所述目标显示设备的各个顶点上的第一目标发光器件;确定所述第一目标发光器件的坐标;以所述第一目标发光器件的坐标为基准,按照预定搜索方式搜索所述目标发光器件中包括的除所述第一目标发光器件之外的其他发光器件;基于搜索结果确定所述其他发光器件的坐标。

在一个示例性实施例中,确定所述目标图像中包括的处于所述目标显示设备的各个顶点上的第一目标发光器件包括:检测处于所述目标显示设备的各个顶点上的所述第一目标发光器件的状态;在检测出位于目标顶点上的所述第一目标发光器件未处于发光状态的情况下,从所述目标顶点位置处沿第一方向搜索第一数量的发光器件,并将所述目标顶点上的所述第一目标发光器件更新为搜索到的处于发光状态的发光器件。

在一个示例性实施例中,以所述第一目标发光器件的坐标为基准,按照预定搜索方式搜索所述目标发光器件中包括的除所述第一目标发光器件之外的其他发光器件包括:确定所述目标发光器件之间的行间距和列间距;以所述第一目标发光器件的坐标为基准,以所述行间距和所述列间距为步长,以预定值为搜索窗口的大小,按照预定搜索方向搜索所述目标发光器件中包括的除所述第一目标发光器件之外的其他发光器件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大华技术股份有限公司,未经浙江大华技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110605458.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top