[发明专利]一种钕铁硼永磁体及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种钕铁硼永磁体的制备方法，其特征在于，所述钕铁硼永磁体具有式I所示组成：

[mHR(1-m)(Pr₂₅Nd₇₅)]_x(Fe_100-a-b-c-dM_aGa_bIn_cSn_d)_100-x-yB_y 式I；

式I中，a=0.995~3.493，b=0.114~0.375，c=0.028~0.125，d=0.022~0.100；x=29.05~30.94，y=0.866~1.000；m=0.02~0.05；

HR为Dy和/或Tb；

M为Co、Cu、Ti、Al、Nb、Zr、Ni、W和Mo中的一种或几种；

所述钕铁硼永磁体的制备方法包括以下步骤：

按照钕铁硼永磁体的组成提供速凝合金片和液态合金，所述速凝合金片的成分为HR、Pr、Nd、Fe、M和B，所述液态合金的成分为Ga、In和Sn；

将所述速凝合金片依次进行氢碎和气流磨制粉，得到粉料合金；

将所述粉料合金与所述液态合金混合，将所得混合物料依次进行取向成型、烧结和回火处理，得到钕铁硼永磁体。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述液态合金的组成为Ga_eIn_fSn_g，其中，e=57~75，f=14~25，g=11~18。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述液态合金的制备方法包括以下步骤：

在保护气氛压力为0.05~0.15MPa、氧含量0.02%、温度为25~35℃条件下，将金属Ga、金属In与金属Sn进行混合，得到液态合金。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氢碎包括依次进行的活化处理、吸氢处理和脱氢处理；

其中，所述活化处理的温度为80~150℃，保温时间为30~60min；

所述吸氢处理的压力≤0.088Pa，以600kg为基准，所述吸氢处理的时间为50~70min；

所述脱氢处理的温度为480~650℃，以600kg为基准，所述脱氢处理的时间为2~5h。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述气流磨制粉在补氧小于10ppm的气氛中进行，所述气流磨制粉过程中，分选轮转速为4200~4300r/min；所述气流磨制粉后所得粉料合金的平均粒度d[5,0]为3.5~4.5μm，粒度分布d[9,0]/d[1,0]为3.8~4.2。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述取向成型在磁感应强度为1.5~2T的条件下进行；所述取向成型后所得生坯的密度为4.2~4.5g/cm³。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述烧结在真空度≤3×10^-3Pa的条件下进行，所述烧结的温度为1030~1100℃，保温时间为2~8h。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述回火处理包括依次进行的第一回火处理和第二回火处理；所述第一回火处理的温度为850~920℃，保温时间为2~5h；所述第二回火处理的温度为470~550℃，保温时间为3~8h。

9.权利要求1~8任一项所述制备方法制备得到的钕铁硼永磁体。

10.权利要求9所述钕铁硼永磁体在电子信息产品或新能源汽车电机产品中的应用。