[发明专利]存储器件及其铁电场效应晶体管和读取方法在审

专利信息
申请号: 202110602234.3 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN113380892A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 林孟汉;黄家恩;贾汉中;刘逸青;杨世海;王奕 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/51;H01L27/1159;G11C11/22
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 存储 器件 及其 电场 效应 晶体管 读取 方法
【权利要求书】:

1.一种配置为多位存储器件的铁电场效应晶体管(FeFET),所述FeFET包括:

半导体衬底,包括:

源极区,位于所述半导体衬底中;和

漏极区,位于所述半导体衬底中;

栅极堆叠件,位于所述半导体衬底上方,所述源极区和所述漏极区延伸到所述栅极堆叠件的相对侧,所述栅极堆叠件包括:

铁电层,位于所述半导体衬底上方;

栅极区,位于所述铁电层上方;并且

其中:

所述铁电层的第一端和第二端相应地靠近所述源极区和所述漏极区;并且

所述铁电层包括偶极子;并且

在所述铁电层的所述第一端处的第一组偶极子具有第一极化;并且

在所述铁电层的所述第二端处的第二组偶极子具有第二极化,所述第二极化与所述第一极化基本上相反。

2.根据权利要求1所述的FeFET,还包括:

可逆区,在所述源极区和所述漏极区之间延伸穿过所述半导体衬底。

3.根据权利要求2所述的FeFET,其中:

所述可逆区的第一部分靠近所述铁电层的所述第一端;

所述可逆区的第二部分靠近所述铁电层的所述第二端;并且

用于所述可逆区的所述第一部分的沟道带势垒不同于用于所述可逆区的所述第二部分的沟道带势垒。

4.根据权利要求1所述的FeFET,其中:

相应的所述第一组偶极子和所述第二组偶极子的所述第一极化和所述第二极化表示存储2位。

5.根据权利要求4所述的FeFET,其中:

所述2位存储单元的第一位被配置为通过向所述源极区施加读取电压并向所述漏极区施加不干扰电压来被读取;和

所述2位存储单元的第二位被配置为通过向所述源极区施加所述不干扰电压并向所述漏极区施加所述读取电压来被读取。

6.根据权利要求4所述的FeFET,其中:

所述第一极化表示所述铁电层的所述偶极子的相应一个的第一稳定取向状态或第二稳定取向状态中的一个,所述第二稳定取向状态与所述第一稳定取向状态基本上相反;并且

所述第二极化相应地表示所述第二稳定取向状态或所述第一稳定取向状态。

7.根据权利要求6所述的FeFET,其中:

所述铁电层的所述第一端的所述第一极化表示所述2位存储单元的第一位;

所述铁电层的所述第二端的所述第二极化表示所述2位存储单元的第二位;

当所述铁电层的所述第一端的所述第一极化和所述铁电层的所述第二端的所述第二极化相应地处于所述第一稳定取向状态和所述第二稳定取向状态时,所述FeFET还表示2位存储单元,用于存储:

对于所述第一位,逻辑高值或逻辑低值;和

对于所述第二位,所述逻辑低值或所述逻辑高值;以及

当所述铁电层的所述第一端的所述第一极化和所述铁电层的所述第二端的所述第二极化相应地处于所述第二稳定状态和所述第一稳定状态时,所述FeFET还表示所述2位存储单元,用于存储:

对于所述第一位,所述逻辑低值或所述逻辑高值;和

对于所述第二位,所述逻辑高值或所述逻辑低值。

8.根据权利要求6所述的FeFET,其中:

在所述第一稳定状态下:

所述偶极子的相应一个的正端靠近所述栅极区取向;和

所述偶极子的相应一个的负端远离所述栅极区取向;以及

在所述第二稳定状态下:

所述偶极子的相应一个的负端靠近所述栅极区取向;和

所述偶极子的相应一个的正端远离所述栅极区取向。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110602234.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top