[发明专利]显示面板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110597963.4 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN113328046A 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 宋辉 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司;武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法
【说明书】:

本申请公开了一种显示面板及其制备方法。显示面板具有相邻设置的屏下摄像区和非屏下摄像区。显示面板包括第一柔性衬底、第一缓冲层、第二柔性衬底和第二缓冲层。第一柔性衬底具有相对设置的第一面和第二面。第一面设置有凹槽。凹槽位于屏下摄像区。第一缓冲层位于第一柔性衬底的第一面。第二柔性衬底位于第一缓冲层远离第一柔性衬底的一侧。第二缓冲层位于第二柔性衬底远离第一缓冲层的一侧。本申请提供的显示面板有利于提高屏下摄像区的光线透过率,改善屏下摄像头的成像效果。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

随着OLED技术的广泛发展和应用深入,对具有更优视觉体验的高屏占比(甚至全面屏)显示屏的追求已成为当前显示技术发展的潮流之一。为了减少摄像头对屏占比的影响,实现全面屏,不同厂家从不同的角度开发多种解决方案,其中一种改进方案是将前置摄像模组设置在现有的OLED显示面板的后端,即采用屏下摄像头的方式。

目前,设置屏下摄像头OLED显示面板通常包括双层柔性衬底。常用的柔性衬底的材料为聚酰亚胺(Polyimide,PI)。PI材料通常为淡黄色,当显示面板的设置屏下摄像头时,PI材料不利于外界环境的光线进入到摄像头中,导致摄像头的成像效果较差。

发明内容

本申请的目的在于提供一种显示面板及其制备方法,以解决现有的显示面板的屏下摄像头进光量较少和成像效果较差的问题。

本申请实施例提供一种显示面板,包括相邻设置的屏下摄像区和非屏下摄像区,所述显示面板包括:

第一柔性衬底,具有相对设置的第一面和第二面,所述第一面设置有凹槽, 所述凹槽位于所述屏下摄像区;

第一缓冲层,位于所述第一面上;

第二柔性衬底,位于所述第一缓冲层远离所述第一柔性衬底的一侧;

第二缓冲层,位于所述第二柔性衬底远离所述第一缓冲层的一侧。

在一些实施例中,所述第二柔性衬底包括开孔,所述开孔位于所述第二柔性衬底远离所述第一缓冲层的一侧,其中,所述凹槽和所述开孔对应设置。

在一些实施例中,所述开孔贯穿所述第二柔性衬底,所述第二缓冲层通过所述开孔与所述第一缓冲层连接。

在一些实施例中,所述开孔在垂直于所述第二柔性衬底的厚度方向上的截面面积大于或等于所述凹槽在垂直于所述第一柔性衬底的厚度方向上的截面面积。

在一些实施例中,所述第一柔性衬底包括多个所述凹槽,多个所述凹槽设置在所述屏下摄像区内。

在一些实施例中,所述凹槽为环形凹槽,多个所述环形凹槽同心设置。

在一些实施例中,所述显示面板还包括发光器件层,所述发光器件层位于所述第二缓冲层远离所述第二柔性衬底的一侧;所述发光器件层包括多个像素,多个所述像素分布在所述屏下摄像区和所述非屏下摄像区,其中,

所述屏下摄像区的像素排布密度小于所述非屏下摄像区的像素排布密度。

在一些实施例中,所述显示面板还包括驱动电路层,所述驱动电路层位于所述发光器件层与所述第二缓冲层之间,所述驱动电路层用于控制所述像素发光;所述驱动电路层包括多个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管与所述像素一一对应,其中,

连接所述屏下摄像区的像素的薄膜晶体管位于所述非屏下摄像区。

在一些实施例中,所述显示面板还包括阻挡件,所述阻挡件位于所述第二缓冲层远离所述第二柔性衬底的一侧,且所述阻挡件位于所述屏下摄像区和所述非屏下摄像区之间。

在一些实施例中,所述第一柔性衬底和所述第二柔性衬底的材料为透明聚酰亚胺材料或透明聚酯材料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司;武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司;武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110597963.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top