[发明专利]基于单像素成像的亮度测量方法及装置在审
| 申请号: | 202110594776.0 | 申请日: | 2021-05-28 |
| 公开(公告)号: | CN113358220A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
| 发明(设计)人: | 曹良才;李兵 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
| 主分类号: | G01J1/42 | 分类号: | G01J1/42;G06T7/60 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 刘梦晴 |
| 地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 像素 成像 亮度 测量方法 装置 | ||
1.一种基于单像素成像的亮度测量方法,其特征在于,包括以下步骤:
搭建基于数字微反射镜的单像素成像式亮度测量光路,且对入射CCD感光芯片的光谱响应灵敏度进行修正和与明视觉光视效率函数V(λ)进行匹配;
利用单像素传感器采集待测发光装置的一维编码光场信号;
根据所述一维编码光场信号基于单像素成像重建算法获得所述待测发光装置的二维光强分布;
利用光度学与几何光学计算获得待测发光装置亮度信息。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于单像素成像重建算法获得所述待测发光装置的二维光强分布,包括:
根据所述数字微反射镜调制的随机强度图像和所述一维编码光场信号的二阶相关性计算目标图像的估计值。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述估计值的计算公式为:
其中,·表示N次测量的平均值,为所述估计值,Pi(x,y)为所述随机强度图像,Si为一维强度信号。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用光度学与几何光学计算获得待测发光装置亮度信息,包括:
根据光强分布与照度关系获得虚拟像面照度值;
根据所述虚拟像面照度值计算所述待测发光装置表面的亮度分布。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述待测发光装置表面的亮度分布的计算公式为:
E=ξL,
其中,L为所述待测发光装置的亮度,τ为光学系统的透过率;f为会聚透镜焦距,fm=f/D为系统的F数,D为孔径直径。
6.一种基于单像素成像的亮度测量装置,其特征在于,包括:
搭建模块,用于搭建基于数字微反射镜的单像素成像式亮度测量光路;
修正模块,用于对入射CCD感光芯片的光谱响应灵敏度进行修正和与明视觉光视效率函数V(λ)进行匹配;
采集模块,用于利用单像素传感器采集待测发光装置的一维编码光场信号;
计算模块,用于根据所述一维编码光场信号基于单像素成像重建算法获得所述待测发光装置的二维光强分布,并利用光度学与几何光学计算获得待测发光装置亮度信息。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述计算模块具体用于根据所述数字微反射镜调制的随机强度图像和所述一维编码光场信号的二阶相关性计算目标图像的估计值。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述估计值的计算公式为:
其中,·表示N次测量的平均值,为所述估计值,Pi(x,y)为所述随机强度图像,Si为一维强度信号。
9.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述计算模块包括:
第一计算单元,用于根据光强分布与照度关系获得虚拟像面照度值;
第二计算单元,用于根据所述虚拟像面照度值计算所述待测发光装置表面的亮度分布。
10.根据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述待测发光装置表面的亮度分布的计算公式为:
E=ξL,
其中,L为所述待测发光装置的亮度,τ为光学系统的透过率;f为会聚透镜焦距,fm=f/D为系统的F数,D为孔径直径。
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