[发明专利]一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺在审

专利信息
申请号: 202110592776.7 申请日: 2021-05-28
公开(公告)号: CN113355626A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 石煜;田晓磊;盛明亮;李小龙 申请(专利权)人: 芜湖映日科技股份有限公司
主分类号: C23C4/131 分类号: C23C4/131;C23C4/08;C23C4/11;C23C4/16;C23C4/02;C23C4/18;C23C14/35;B24C1/00
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 杨静
地址: 241009 安徽省芜湖市中国(安徽)自*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 氧化 旋转 溅射 制备 工艺
【权利要求书】:

1.一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺,其特征在于,首先制备不锈钢背管,对不锈钢背管采用五氧化二铌粉末进行喷涂,在喷涂时向背管内通入冷水再缓慢加热至90℃,喷涂完成后,以1℃/min速度缓慢降低水温,工件转速同步降低,最后再对靶材进行后处理加工。

2.如权利要求1所述的一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺,其特征在于:所述不锈钢背管的制备包括以下步骤:首先选取不锈钢管,并且不锈钢管按图纸进行两端端面预处理;然后采用喷砂机对不锈钢管表面进行处理;最后采用高功率电弧融化镍铝丝,并使融化的镍铝丝均匀溅射至不锈钢管表面。

3.如权利要求1所述的一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺,其特征在于:喷涂时,通入水温度不大于90℃,加热功率不大于30KW。

4.如权利要求1所述的一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺,其特征在于:工件喷涂时的转速为200r/min,靶材成型后,工件转速逐步降为50r/min;喷涂电弧电压为55-60V,喷涂电弧电流为500±10A。

5.如权利要求1所述的一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺,其特征在于:在喷涂时,喷涂房需要密闭,喷涂房温度为40℃以上;同时采用氩气进行保护,氩气流量1700-1720L/H,压力0.5Mpa。

6.如权利要求1所述的一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺,其特征在于:所述后处理加工包括以下步骤,首先采用金刚石砂带抛光靶材表面,然后按图纸加工靶材两端端面,最后通过尼龙磨头对靶材两端端面进行除锈、去划痕处理,用无水酒精擦拭靶材表面杂污。

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