[发明专利]在制品数量的预测方法及预测系统

权利要求书

1.一种在制品数量的预测方法，应用于半导体工艺路线，其特征在于，包括：

获取半导体工艺路线中的多个在制品数量数据以及与所述在制品数量数据一一对应的多个芯片产量数据；

以多个所述在制品数量数据和对应的多个所述芯片产量数据为数据集，清洗所述数据集，使得所述数据集符合半导体工艺路线的预设要求；

获取半导体工艺路线中的多个输入特征组以及与所述输入特征组一一对应的多个输出特征组；所述输入特征组包括清洗后的所述数据集的在制品数量数据、机台可利用时间率数据、各工艺站点的加工时间数据和机台可利用数量数据，所述输出特征组包括清洗后的所述数据集的芯片产量数据；

以获取的多个所述输入特征组以及对应的多个所述输出特征组为样本集，利用第一预设算法提取训练所述样本集，从而构建预测模型；

根据多个所述输入特征组中的机台可利用时间率数据的平均值、各工艺站点的加工时间数据的平均值和机台可利用数量数据的平均值，并基于所述预测模型计算在制品数量数据。

2.根据权利要求1所述的在制品数量的预测方法，其特征在于，以多个所述在制品数量数据和对应的多个所述芯片产量数据为数据集，清洗所述数据集，使得所述数据集符合半导体工艺路线的预设要求的步骤包括：

利用第二预设算法提取训练所述数据集的映射关系，于坐标系中拟合得到筛选函数；其中，横轴表示所述在制品数量数据，纵轴表示所述芯片产量数据；

分别计算所述数据集于所述坐标系中模拟形成的多个坐标点与所述筛选函数之间的纵轴偏差；若所述纵轴偏差的绝对值大于期望偏差，删除所述坐标点对应的所述在制品数量数据和所述芯片产量数据；若所述纵轴偏差的绝对值小于或等于所述期望偏差，保存所述坐标点对应的所述在制品数量数据和所述芯片产量数据。

3.根据权利要求2所述的在制品数量的预测方法，其特征在于，所述第二预设算法包括最小二乘法。

4.根据权利要求2所述的在制品数量的预测方法，其特征在于，于坐标系中拟合得到筛选函数的步骤之后，所述在制品数量的预测方法还包括：比较所述筛选函数的相关系数的绝对值与预设的期望相关系数；若所述筛选函数的相关系数的绝对值大于或等于所述期望相关系数，保留所述筛选函数；若所述筛选函数的相关系数的绝对值小于所述期望相关系数，调整所述数据集并提取训练调整后的所述数据集，直到拟合后的所述筛选函数的相关系数的绝对值大于或等于所述期望相关系数。

5.根据权利要求1所述的在制品数量的预测方法，其特征在于，所述第一预设算法包括多项式回归；根据多个所述输入特征组中的机台可利用时间率数据的平均值、各工艺站点的加工时间数据的平均值和机台可利用数量数据的平均值，并基于所述预测模型计算在制品数量数据的步骤包括：

基于多个所述输入特征组中的机台可利用时间率数据的平均值、各工艺站点的加工时间数据的平均值和机台可利用数量数据的平均值，将所述预测模型转化为所述输出特征组关于所述在制品数量数据的预测回归函数；

求解所述预测回归函数关于所述在制品数量数据的偏导数，并基于所述偏导数的极值计算在制品数量数据。

6.根据权利要求5所述的在制品数量的预测方法，其特征在于，所述在制品数量的预测方法还包括：调整所述预测模型的所述输入特征组的在制品数量数据的权重因子、机台可利用时间率数据的权重因子、各工艺站点的加工时间数据的权重因子和机台可利用数量数据的权重因子。