[发明专利]一种显示面板及其制备方法、电子设备

说明书

本申请公开了一种显示面板及其制备方法、电子设备，其中，一种显示面板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上阵列排布的第一OLED单元和第二OLED单元，所述第一OLED单元包括阳极、阴极以及位于所述阳极背离所述阴极的一侧设置的反射层，所述反射层位于平坦层中，所述阳极为透明电极，所述阴极为半透明电极。本申请实施例提供的显示面板，在第一OLED单元的底部设置反射层，以实现顶发射功能，为设置发射层的第二OLED单元实现底发射功能，在同一显示面板上，排布设置第一OLED单元和第二OLED单元，形成双面显示面板。本申请的显示面板简化双面显示面板中OLED制备流程和工艺，降低生产成本。

技术领域

本申请一般涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法、电子设备。

背景技术

近年来，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)由于具有主动发光、发光亮度高、分辨率高、宽视角、响应速度快、低能耗以及可柔性化等特点而受到更多的关注。降低OLED制造成本、扩展OLED新应用场景是提升产品竞争力的关键。

适用于中小尺寸的OLED显示面板中的发光元件通常都使用蒸镀工艺制备。如现行蒸镀量产线上的蒸镀设备一般至少会包括8个有机腔室(OC，Organic Chamber)和1个金属腔室(MC，Metal Chamber)，用于蒸镀HTL(Hole Inject Layer；空穴注入层)、R/G/B Prime(电子阻挡层)、R/G/B EML(发光层)、HBL(Hole Blocking Layer；空穴阻挡层)、ETL(Electron Transport Layer；电子传输层)、Cathode(阴极)、CPL(Capping Layer；光提取层)等材料。

现行蒸镀量产线上会使用至少5张精细掩膜版(FMM，Fine Metal Mask)蒸镀R/G/B电子阻挡层与发光层，以满足R/G/蓝色对微腔(Micro Cavity)腔长的不同需求，满足R/G/B发光层对不同能级、迁移率的电子阻挡层材料的需求。昂贵的蒸镀机设备和FMM备件使得OLED面板的生产成本增大，减少蒸镀腔室和Mask的使用势必会降低生产成本。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种显示面板及其制备方法、电子设备，可以实现双面显示，并且能够降低OLED的生产成本。

第一方面，本申请提供了一种显示面板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上阵列排布的第一OLED单元和第二OLED单元，所述第一OLED单元包括阳极、阴极以及位于所述阳极背离所述阴极的一侧设置的反射层，所述反射层与所述阳极间隔设置，所述阳极为透明电极，所述阴极为半透明电极。

进一步地，所述第一OLED单元和所述第二OLED单元沿第一方向和/或第二方向依次交替设置。

优选地，所述第一OLED单元和所述第二OLED单元均包括发光元件以及设置在所述发光元件下方的阵列基板，所述发光元件包括层叠设置的所述阴极、发光层、所述阳极，所述阵列基板包括平坦层以及设置在所述平坦层上方的像素界定层，所述像素界定层上设置有用于形成所述发光元件的开口。

进一步地，所述反射层上设置有对应所述开口位置的反射图案，所述开口在所述反射层的正投影位于所述反射图案的范围内。

进一步地，所述发光元件包括红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层，所述红色发光层到所述反射层之间的距离、所述绿色发光层到所述反射层之间的距离、所述蓝色发光层到所述反射层之间的距离依次递减。

优选地，所述红色发光层到所述反射层之间的距离为185-415nm；所述绿色发光层到所述反射层之间的距离为140-390nm；所述蓝色发光层到所述反射层之间的距离为95-345nm。

优选地，所述反射层到所述阳极的距离大致相等。