[发明专利]一种硅垢清洗剂及其制备方法和应用

说明书

本发明提出一种硅垢清洗剂及其制备方法和应用，属于清洗剂技术领域。该技术方案按重量百分比计，包括如下组分：二氯胺20％～30％、醇类化合物5％～10％、柠檬酸2％～5％、表面活性剂0.1％～1％和余量的去离子水。本发明能够应用于反渗透膜清洗中。

技术领域

本发明属于清洗剂技术领域，具体涉及一种硅垢清洗剂及其制备方法和应用。

背景技术

我国的能源结构中以煤炭为主，煤化工的一大特点是耗水量大，所以维持煤化工的生产过程必然会产生大量的污水。而我国的煤炭资源和水资源却呈逆向分布，在煤炭资源丰富的地区，水资源往往十分匮乏。煤化工废水处理后重复利用是未来行业发展大趋势，煤化工废水处理工艺中双膜法处理工艺是最为常见的含盐废水处理工艺。煤化工废水含有大量有机小分子、盐分，其中无机盐离子多以铁、硅、钙、镁等元素为主，这些离子结合水中的悬浮颗粒物容易在反渗透膜表面形成无机盐沉积。

反渗透膜硅垢污染以颗粒硅、胶硅、硅酸盐垢为主，硅质垢难溶于水，极易凝聚，污堵膜元件水流通道，导致系统压差升高。恢复膜性能最好的办法是进行化学清洗，例如采用柠檬酸、盐酸清洗碳酸钙垢，采用EDTA、氢氧化钠清洗胶体颗粒物，用柠檬酸清洗铁污染物。然而目前市面上的清洗剂对硅垢的清洗效果甚微。虽然硅垢溶于氢氟酸，但是反渗透膜耐酸碱性有限，无法将反渗透膜浸泡于氢氟酸中。

发明内容

本发明针对上述反渗透膜硅垢难以清除的技术问题，提出了一种硅垢清洗剂，既能快速、有效地去除硅垢又不伤害反渗透膜。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案为：

一种硅垢清洗剂，按重量百分比计，包括如下组分：二氯胺20％～30％、醇类化合物5％～10％、柠檬酸2％～5％、表面活性剂0.1％～1％和余量的去离子水。

优选的，所述醇类化合物为聚乙二醇、二乙二醇或乙二醇。

优选的，所述醇类化合物为聚乙二醇。

优选的，所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、二辛基琥珀酸磺酸钠或甘胆酸钠。

优选的，所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠。

本发明提供了一种上述任意一项方案所述的硅垢清洗剂的制备方法，包括如下步骤：

1)将二氯胺、醇类化合物和去离子水混合，得到混合液；

2)将所述混合液与柠檬酸和表面活性剂混合，得到硅垢清洗剂。

本发明提供了一种上述任意一项方案所述的硅垢清洗剂在反渗透膜清洗中的应用。

与现有技术相比，本发明的优点和积极效果在于：

1、本发明提供的硅垢清洗剂能够有效清洗硅垢，且清洗耗时短；

2、本发明提供的硅垢清洗剂对反渗透膜损伤小。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明提供了一种硅垢清洗剂，按重量百分比计，包括如下组分：二氯胺20％～30％、醇类化合物5％～10％、柠檬酸2％～5％、表面活性剂0.1％～1％和余量的去离子水。

本发明提供的硅垢清洗剂中包括二氯胺，所述二氯胺为硅垢清洗剂的20％～30％，优选为23％～26％，更优选为25％。