[发明专利]一种异质结中长波红外探测器及其制备方法有效
申请号: | 202110580050.1 | 申请日: | 2021-05-26 |
公开(公告)号: | CN113284975B | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 王东博;刘东昊;肖淑丹;王金忠;胡云飞;张冰珂;矫淑杰;李政昊;张雨琦 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | H01L31/109 | 分类号: | H01L31/109;H01L31/0336;H01L31/18 |
代理公司: | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人: | 李智慧 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 异质结中 长波 红外探测器 及其 制备 方法 | ||
1.一种异质结中长波红外探测器的制备方法,其特征在于所述探测器包括Si衬底、WS2/石墨烯量子点异质结和金电极,Si衬底上生长WS2/石墨烯量子点异质结,金电极设置在WS2/石墨烯量子点异质结上,所述制备方法包括如下步骤:
步骤一、在Si衬底上磁控溅射沉积WS2薄膜,磁控溅射工艺参数如下:Ar气流量为40~45sccm,压强为1.5~1.8Pa,功率为150~180W,溅射时间为10~30min;
步骤二、制备WS2/石墨烯量子点异质结:使用匀胶机在WS2薄膜上旋涂石墨烯量子点水溶液,石墨烯量子点水溶液的浓度为1mol/L,得到WS2/石墨烯量子点异质结;
步骤三、利用磁控溅射技术在WS2/石墨烯量子点异质结表面沉积Au电极,磁控溅射的功率为30~50W,压强为0.5~1.0 Pa,氩气流量为20~40sccm,溅射时间为1~2 min。
2.根据权利要求1所述的异质结中长波红外探测器的制备方法,其特征在于所述步骤二中,控制匀胶机转速为2000~4000转/分,旋涂时间为10~30s。
3.根据权利要求1所述的异质结中长波红外探测器的制备方法,其特征在于所述Si衬底的厚度为1μm。
4.根据权利要求1所述的异质结中长波红外探测器的制备方法,其特征在于所述WS2/石墨烯量子点异质结的厚度为1.2μm。
5.根据权利要求1所述的异质结中长波红外探测器的制备方法,其特征在于所述金电极的厚度为50μm,电极之间间距2mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学,未经哈尔滨工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110580050.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的