[发明专利]调色剂在审
申请号: | 202110576150.7 | 申请日: | 2021-05-26 |
公开(公告)号: | CN113759677A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 川口新太郎;田中正健;佐伯达也;佐藤正道 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G9/087 | 分类号: | G03G9/087;G03G9/113;G03G9/09;G03G9/08 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调色 | ||
本发明涉及调色剂。一种调色剂,其包括调色剂颗粒,所述调色剂颗粒包括含有粘结剂树脂的核颗粒、和含有无机细颗粒和有机硅聚合物的表层,其中有机硅聚合物具有由R‑Si(O1/2)3表示的T3结构,在调色剂颗粒的THF不溶性物质的29Si‑NMR测量中,归属于T3结构的峰面积相对于有机硅聚合物的总峰面积的比例为至少5.0%,并且在使用TEM的对调色剂颗粒的截面的观察中,调色剂具有预定的表层厚度、预定数量的在表层中与核颗粒接触的无机细颗粒、和预定数量的存在于核颗粒中并且不与表层接触的无机细颗粒。
技术领域
本公开涉及用于图像形成方法例如电子照相法的调色剂。
背景技术
近年来,对电子照相图像形成装置提出了对于高速化、长寿命化、节能化和小型化更高的要求,并且,响应于这些要求,还要求调色剂的各种特性的进一步改善。在高速化和长寿命化方面,显影装置内的调色剂倾向于经受增加的对例如热和冲击等应力的暴露。结果,为了即使在输出多张图像期间无论使用环境如何均保持良好的图像品质,需要可以将带电性能和耐久性保持在高水平的高耐久性调色剂。
另一方面,在节能化方面,需要显示优异的低温定影性的调色剂,尽管这通常涉及与高耐久性的折衷。结果,对能够以高水平显示高耐久性和低温定影性二者的调色剂存在更大需求。
用于解决该问题的一种手段为用树脂覆盖调色剂颗粒的表面的方法。
作为用硅化合物覆盖调色剂颗粒表面的方法,日本专利申请特开No.H03-089361记载了将硅烷偶联剂添加至反应体系中的聚合调色剂的生产方法。
日本专利申请特开No.H09-179341记载了在表面上具有来自自由基聚合性有机硅烷化合物的反应产物的涂膜的聚合调色剂。
发明内容
根据由本发明人进行的研究的结果,在日本专利申请特开No.H03-089361中记载的调色剂的情况下,调色剂表面上的硅烷化合物的沉积量不足,并且对于高速化和长寿命化所需的低温定影性和高耐久性的共存存在改进空间。在日本专利申请特开No.H09-179341中记载的调色剂的情况下,有机官能团具有高的极性并且调色剂颗粒表面上的硅烷化合物的沉积量不足,并且硅烷化合物的水解和缩聚不足,此外,交联度弱。结果,这对于与高速化和长寿命化相关的低温定影性和高耐久性是不充分的,并且存在改进空间。
本公开提供即使在图像形成装置的高速化和长寿命化的情况下也显示低温定影性和高耐久性的调色剂。
作为解决上述问题的深入研究的结果,本发明人发现可以通过以下描述的调色剂来解决该问题。
本公开涉及一种调色剂,其包含调色剂颗粒,所述调色剂颗粒包括
含有粘结剂树脂的核颗粒,和
含有无机细颗粒和有机硅聚合物的表层,其中
有机硅聚合物具有由下式(T3)给出的结构:
R-Si(O1/2)3 (T3)
其中,R表示具有1至6个碳的烷基或苯基;
在调色剂颗粒的四氢呋喃不溶性物质的29Si-NMR测量中,归属于由式(T3)给出的结构的峰面积相对于有机硅聚合物的总峰面积的比例为至少5.0%;和
在使用透射型电子显微镜的对调色剂颗粒的截面的观察中,
长轴L为穿过调色剂颗粒的几何中心并且具有调色剂颗粒的截面中的最长直径的弦,
线段a为将长轴L在其中点处分割时的线段之一,
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