[发明专利]显示装置、电气光学装置、电气设备、金属掩膜以及像素阵列有效
| 申请号: | 202110574183.8 | 申请日: | 2015-11-19 |
| 公开(公告)号: | CN113471254B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
| 发明(设计)人: | 松枝洋二郎 | 申请(专利权)人: | 天马微电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H10K59/35 | 分类号: | H10K59/35;H10K77/10;H10K71/10 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 杨晓萍 |
| 地址: | 518028 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示装置 电气 光学 装置 电气设备 金属 以及 像素 阵列 | ||
本发明涉及显示装置、电气光学装置、电气设备、金属掩膜以及像素阵列。一种显示装置,包括分别具有第一色的子像素、第二色的子像素及第三色的子像素的多个像素,第一色和第二色的子像素沿列方向排列,第三色的子像素相对于第一色的子像素和第二色的子像素沿行方向排列。在列方向上彼此相邻的像素在奇数列中形成奇数行和下一偶数行的组,在偶数列中形成偶数行和下一奇数行的组,在第三色的两个子像素中,发光层连续,并且发光区域相互分离,发光区域配置成相对于分割第三色的两个子像素的中心线呈线对称。
本申请要求2014年11月26日在日本提交的专利申请No.2014-238528的优先权,该日本专利申请的全部内容通过引入并入本文。
本申请为申请日为2015年11月19日,申请号为201510802507.3,发明创造名称为“显示装置、电气光学装置、电气设备、金属掩膜版以及像素阵列”的分案申请。
技术领域
本发明涉及显示装置、包括该显示装置的电气光学装置、利用该电气光学装置作为显示设备的电气设备、用于制造该显示装置的金属掩膜、以及像素阵列。
背景技术
有机EL(Electro Luminescence:电致发光)元件是电流驱动型的自发光元件,因此其具有能够获得低电力消耗、大视角、高对比度等、以及不需要背光的优点,被认为有助于平板显示器的继续开发。
使用上述的有机EL元件的有机EL显示装置利用红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)各色的子像素来形成多个像素。因此,在显示装置上显示各种彩色图像。这些RGB的子像素可配置成各种形式,但是,如图1所示,通常配置成同色的子像素等同排列的条型(所谓的RGB纵条纹方式)。通过控制三色的子像素之间的亮度,能够显示所有的颜色。通常,将彼此相邻的R、G、B的三色子像素整体上视作一个矩形像素,并将这些像素配置成正方形,由此实现点阵显示。在点阵型显示装置中,将要显示的图像数据是n×m矩阵配置,通过使图像数据与像素一对一关联,能够显示正确的图像。
另外,有机EL显示装置具有基于白色有机EL元件通过彩色滤光片产生RGB三色的彩色滤光片方式、以及用各不相同的颜色选择性沉积RGB三色的有机EL材料的选择性并排沉积方式。彩色滤光片方式具有以下缺点:由于彩色滤光片吸收光,因此光利用率下降并且电力消耗提高。然而,选择性并排沉积方式是由于其高颜色纯度而能够容易提供广色域的方式,因此光利用率提高。由于这些原因,选择性并排沉积方式已被广泛利用。
发明内容
在上述的选择性并排沉积方式中,为了用各不相同的颜色选择性沉积有机EL材料,使用精细金属掩模(Fine Metal Mask:FMM)。近来,随着有机EL显示装置的更高的清晰度,FMM的间距也变得更窄,而难以制造FMM。为了解决该问题,利用人眼视觉对R和B不敏感而对G敏感,如图2所示,提出以下的像素排列结构(所谓的波形瓦方式):由G和B两色或G和R两色形成子像素,与RGB排列相比颜色缺失的子像素所需的颜色表现通过与具有相邻的相应色的子像素的像素组合来伪装再现(例如,参照美国专利No.6771028、美国专利申请公开No.2002/0186214、美国专利申请公开No.2004/0113875、以及美国专利申请公开No.2004/0201558)。
在波形瓦方式中,由于通过减少子像素数,R和B的点宽度可被确保两个纵条纹的量,因此能够增大FMM的开口尺寸,并使高清晰度的有机EL显示装置的制造变得容易。然而,波形瓦方式被设置为通过拼接方法缓解由子像素数的减少引起的颜色破绽。因此,可能发生如下的问题,例如:产生原本平滑显示的曲线变成台阶状的锯齿边缘;在颜色的灰度和亮度连续变化的图像中颜色的变化被观察成线状等。
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