[发明专利]一种漫浸式磁粉探伤装置

权利要求书

1.一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：包括注入磁悬液从下往上漫过工件从而浸渍工件的浸渍槽、储存磁悬液的储液箱、以及使磁悬液在所述浸渍槽和所述储液箱之间流动的循环装置。

2.根据权利要求1所述的一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：所述浸渍槽的底部为缓坡漏斗形，所述浸渍槽的出水口位于漏斗形底部，所述浸渍槽的入水口位于所述浸渍槽的侧面，所述浸渍槽的入水口为横向扁口。

3.根据权利要求1所述的一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：所述浸渍槽设置有限制工件放入位置的限位板，所述限位板位于所述浸渍槽的入水口以上，所述限位板设置有若干个便于磁悬液通过的通孔。

4.根据权利要求1所述的一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：所述储液箱的入水口与出水口之间依次设置有过滤板和隔板，所述过滤板与所述储液箱的顶、底、左、右内壁连接，所述隔板与所述储液箱的顶、左、右内壁连接。

5.根据权利要求1所述的一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：所述循环装置包括闸阀和由变频电机驱动的水泵，所述闸阀的两端通过落水管分别与所述浸渍槽的出水口、所述储液箱的入水口连通，所述水泵设置于所述储液箱的出水口且通过进水管与所述浸渍槽的入水口连通。

6.根据权利要求5所述的一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：所述进水管是由圆管向扁管过渡的异形管，且所述进水管的扁管一端的截面积大于圆管一端的截面积。

7.根据权利要求1所述的一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：所述浸渍槽进液漫过工件到泄液完成的时间小于45s，且磁悬液完全漫过工件的时间大于5s。

8.根据权利要求5所述的一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：所述闸阀采用由气缸驱动的闸板阀。

9.根据权利要求1所述的一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：所述浸渍槽的上方设置有转移工件的机械手，所述机械手包括平移架，所述平移架的两端设置有可上下滑动的伸缩架，所述伸缩架设置有可左右摆动的夹持机构。

10.根据权利要求9所述的一种漫浸式磁粉探伤装置，其特征在于：所述夹持机构设置有二次磁化工件的电极。