[发明专利]一种高比表面积硅酸镁纳米粉体、制备方法及应用

权利要求书

1.一种高比表面积硅酸镁纳米粉体，其特征在于：包括以下制备原料：镁化物、硅化物、去离子水。

2.根据权利要求1所述的一种高比表面积硅酸镁纳米粉体，其特征在于：所述镁化物为硝酸镁、氯化镁、磷酸镁、硫酸镁、氢氧化镁中的任一种或多种。

3.根据权利要求1所述的一种高比表面积硅酸镁纳米粉体，其特征在于：所述硅化物为正硅酸乙酯、二氧化硅溶胶、硅酸钠、硅酸钙中的任一种或多种。

4.一种高比表面积硅酸镁纳米粉体的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一：将镁化物与去离子水混合，配制成一定浓度的镁化物溶液，并且通过磁力搅拌均匀，留取待用；

步骤二：将硅化物与去离子水混合，配制成一定浓度的硅化物溶液，并且通过磁力搅拌均匀，留取待用；

步骤三：将步骤二中硅化物溶液逐滴滴加到步骤一中的镁化物溶液中，滴加过程中保持高速磁力搅拌，滴加结束后继续高速磁力搅拌处理，得到混合溶液；

步骤四：将上述混合溶液转移至微波水热反应釜中，在一定条件下进行微波水热处理；

步骤五：将反应后的混合体系进行离心分离，然后洗涤，干燥即可得到高比表面积硅酸镁纳米粉体。

5.根据权利要求1所述的一种高比表面积硅酸镁纳米粉体的制备方法，其特征在于：所述步骤一中镁化物的溶液浓度为0.01～1毫摩尔每升。

6.根据权利要求1所述的一种高比表面积硅酸镁纳米粉体的制备方法，其特征在于：所述步骤二中硅化物的溶液浓度为0.01～1毫摩尔每升。

7.根据权利要求1所述的一种高比表面积硅酸镁纳米粉体的制备方法，其特征在于：所述步骤三中滴加速度为0～10mL/min，所述溶液中Mg与Si的摩尔比为1：1，所述磁力搅拌速度为200～600r/min，所述滴加结束后继续搅拌，且搅拌时间为0～10分钟。

8.根据权利要求1所述的一种高比表面积硅酸镁纳米粉体的制备方法，其特征在于：所述步骤四中微波水热处理所用的装置为多功能微波合成萃取仪，所述微波水热处理的水温为60℃～180℃，所述微波水热处理的保温时间为1～30分钟，所述微波水热处理的升温速率为10℃/min～50℃/min。

9.根据权利要求1所述的一种高比表面积硅酸镁纳米粉体的制备方法，其特征在于：所述步骤五中洗涤用溶剂为去离子水与无水乙醇，所述洗涤的次数为2～4次，所述干燥的温度为50℃～80℃。

10.根据权利要求1～9任一项所述的一种高比表面积硅酸镁纳米粉体的应用，其特征在于：所述硅酸镁纳米粉体应用于喷剂、硅酸镁凝胶等复合材料领域以及药物载体、人体软、硬组织再生修复等生物医用领域。