[发明专利]一种对䓝烷-1-基仲胺类化合物及其制备方法与除草应用

权利要求书

1.一种对烷-1-基仲胺类化合物，其特征在于，结构通式如下：

通式I中，R是4-氟苄基、2-氯苄基、2,6-二氯苄基、2-三氟甲基苄基、吡啶-4-甲基、呋喃-2-甲基、紫苏基、四氢紫苏基、对羟基苄基中的任意一种。

2.权利要求1所述的对烷-1-基仲胺类化合物的制备方法，其特征在于，所述的通式I的化合物以对烷-1-胺和醛为原料，在一定温度下在极性有机溶剂中充分反应后，分批次投入氢化物类还原剂还原，反应结束后反应液经后处理而得。

3.根据权利要求2所述的对烷-1-基仲胺类化合物的制备方法，其特征在于，所述的对烷-1-胺和醛的摩尔比在1∶1～5之间，所述的对烷-1-胺和醛的反应温度在0～100℃之间。

4.根据权利要求2所述的对烷-1-基仲胺类化合物的制备方法，其特征在于，所述的极性有机溶剂为甲醇、乙醇、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜中的一种或任意几种的混合物。

5.根据权利要求2所述的对烷-1-基仲胺类化合物的制备方法，其特征在于，所述的氢化物类还原剂为硼氢化钠、硼氢化钾、氢化铝锂中的任意一种。

6.根据权利要求2所述的对烷-1-基仲胺类化合物的制备方法，其特征在于对烷-1-胺和还原剂摩尔量之比计算在1∶1～10之间。

7.根据权利要求2所述的对烷-1-基仲胺类化合物的制备方法，其特征在于，所述的还原反应的反应温度在-20～60℃之间，所述的还原反应的反应时间为1～24h。

8.根据权利要求2所述的对烷-1-基仲胺类化合物的制备方法，其特征在于，所述的后处理具体指，反应液经蒸馏水淬灭、二氯甲烷萃取、无水硫酸钠干燥、过滤、减压蒸馏得对烷-1-基仲胺类化合物粗品，重结晶或硅胶柱层析得纯品。

9.权利要求1所述的对烷-1-基仲胺类化合物作为除草剂活性成分的应用。

10.权利要求1所述的对烷-1-基仲胺类化合物作为针对稗草和油菜的除草剂活性成分的应用。