[发明专利]光强调制器、光强调制系统及光强调制方法在审
| 申请号: | 202110555037.0 | 申请日: | 2021-05-21 |
| 公开(公告)号: | CN113433723A | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
| 发明(设计)人: | 周柏君;李月;吴艺凡;常文博;肖月磊;曹雪;宋雪超;周毅;韩基挏;曲峰 | 申请(专利权)人: | 北京京东方传感技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133;G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/137 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 刘悦晗;姜春咸 |
| 地址: | 100176 北京市北京经济技术开发*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 调制器 调制 系统 方法 | ||
1.一种光强调制器,包括驱动电路和液晶盒结构,所述驱动电路与所述液晶盒结构相连,用于向所述液晶盒结构内的液晶层提供驱动电压,以形成外加电场,其特征在于,所述液晶层中掺杂有离子。
2.如权利要求1所述的光强调制器,其特征在于,所述离子包括以下之一或任意组合:两性离子、阴性离子、阳性离子。
3.如权利要求1所述的光强调制器,其特征在于,还包括温度调节装置,所述温度调节装置与所述液晶盒结构相连,用于调节所述液晶盒结构的工作温度。
4.如权利要求3所述的光强调制器,其特征在于,所述温度调节装置包括温度控制单元和温度调节单元,所述温度调节单元位于所述液晶盒结构的至少一侧,用于改变所述液晶盒结构的工作温度,所述温度控制单元与所述温度调节单元相连,用于控制所述温度调节单元的温度。
5.如权利要求4所述的光强调制器,其特征在于,还包括隔热单元和偏振单元,所述隔热单元位于所述温度调节单元远离所述液晶盒结构的一侧,所述偏振单元为两个,分别位于所述液晶盒结构的两侧。
6.如权利要求5所述的光强调制器,其特征在于,还包括滤光单元,所述滤光单元位于一个所述偏振单元远离所述液晶盒结构的一侧。
7.如权利要求6所述的光强调制器,其特征在于,所述滤光单元包括至少一个滤光片,当所述滤光片为多个时,各所述滤光片用于过滤不同波段的光,且各所述滤光片叠加设置。
8.一种光强调制系统,其特征在于,包括如权利要求1-7任一项所述的光强调制器。
9.如权利要求8所述的光强调制系统,其特征在于,还包括光扩束装置和光收束装置,所述光扩束装置位于所述光强调制器的入光侧,所述光收束装置位于所述光强调制器的出光侧。
10.一种光强调制方法,其特征在于,应用于如权利要求1-7任一项所述的光强调制装置,所述方法包括:
利用所述驱动电路向所述液晶盒结构加载驱动电压,以形成外加电场,以使所述液晶层中的离子在所述外加电场作用下形成内建电场;
调整所述内建电场,以改变所述液晶层中液晶分子的偏转角度。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,所述调整所述内建电场,包括:
调整所述驱动电压的以下参数之一或任意组合:波形、振幅、频率、正负帧的周期占比。
12.如权利要求10所述的方法,其特征在于,应用于如权利要求3-7任一项所述的光强调制装置,所述调整所述内建电场,包括:
利用所述温度调节装置提高所述液晶盒结构的工作温度。
13.如权利要求10所述的方法,其特征在于,所述驱动电压的波形为正弦波或方波。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方传感技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经北京京东方传感技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110555037.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种建筑材料成型生产线
- 下一篇:一种LED半导体灯具





