[发明专利]一种阵列基板、显示面板在审
申请号: | 202110554410.0 | 申请日: | 2021-05-20 |
公开(公告)号: | CN115373188A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 霍培荣;李波;刘鹏;张永强;徐敬义 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 显示 面板 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底以及设置在所述衬底上的阵列排布的多个子像素;所述子像素包括依次层叠设置在所述衬底上的遮光层、半导体层、栅极层、源漏层和像素电极层;
所述半导体层包括依次相连的第一接触部、第一沟道部、掺杂部、第二沟道部和第二接触部;所述栅极层包括第一栅极和第二栅极;所述源漏层包括第一极和第二极;所述像素电极层包括像素电极;所述第一极分别与所述第一接触部和所述像素电极电连接,所述第二极与所述第二接触部电连接;
其中,所述第一沟道部和所述第一栅极沿垂直于所述衬底的方向交叠,所述第二沟道部和所述第二栅极沿垂直于所述衬底的方向交叠;
所述遮光层在所述衬底上的正投影至少覆盖所述第一沟道部、所述第二沟道部和部分所述第一接触部在衬底上的正投影。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述栅极层还包括栅线;
所述第一栅极为所述栅线沿垂直于所述衬底的方向与所述第一沟道部交叠的部分,所述第二栅极为所述栅线沿垂直于所述衬底的方向与所述第二沟道部交叠的部分;
所述栅线沿第一方向延伸,所述掺杂部在所述衬底上的正投影位于所述栅线在所述衬底上的正投影的第一侧,所述第一接触部和所述第二接触部在所述衬底上的正投影位于所述栅线在所述衬底上的正投影的第二侧,所述第一侧和所述第二侧相对。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光层沿所述第一方向延伸,所述栅线在所述衬底上的正投影位于所述遮光层在所述衬底上的正投影以内。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光层至少包括交叠部分和第一部分,所述交叠部分沿所述第一方向延伸、且在所述衬底上的正投影与所述栅线在所述衬底上的正投影重合,所述第一部分在所述衬底上的正投影位于所述栅线在所述衬底上的正投影的所述第二侧;
所述第一接触部包括第一接触子部和第一掺杂子部,所述第一掺杂子部设置在所述第一接触子部和所述第一沟道部之间,所述第一接触子部与所述第一极电连接;
其中,所述第一掺杂子部在所述衬底上的正投影位于所述第一部分在所述衬底上的正投影以内;和/或,所述第一接触子部在所述衬底上的正投影位于所述第一部分在所述衬底上的正投影以内。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述第二接触部在所述衬底上的正投影与所述第一部分在所述衬底上的正投影不交叠,所述掺杂部在所述衬底上的正投影与所述遮光层在所述衬底上的正投影不交叠。
6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,在所述第一接触子部在所述衬底上的正投影位于所述第一部分在所述衬底上的正投影以内、且所述第一掺杂子部在所述衬底上的正投影与所述第一部分在所述衬底上的正投影不交叠的情况下,所述第一部分与所述交叠部分不相连。
7.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述第二接触部包括第二接触子部和第二掺杂子部,所述第二掺杂子部设置在所述第二接触子部和所述第二沟道部之间,所述第二接触子部与所述第二极电连接;
其中,所述第二掺杂子部在所述衬底上的至少部分正投影位于所述第一部分在所述衬底上的正投影以内。
8.根据权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,所述第二接触子部在所述衬底上的正投影与所述第一部分在所述衬底上的正投影不交叠。
9.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于,在所述第一掺杂子部在所述衬底上的正投影位于所述第一部分在所述衬底上的正投影以内、且所述第一接触子部在所述衬底上的正投影与所述第一部分在所述衬底上的正投影不交叠的情况下,所述第一部分沿所述第一方向延伸、且与所述交叠部分相连。
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