[发明专利]一种抑制荧光粉中Eu3+ 有效
申请号: | 202110550035.2 | 申请日: | 2021-05-20 |
公开(公告)号: | CN113249119B | 公开(公告)日: | 2022-06-21 |
发明(设计)人: | 张家骅;刘雪晴;张亮亮;吴昊;武华君;潘国徽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | C09K11/59 | 分类号: | C09K11/59 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 魏毅宏 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抑制 荧光粉 eu base sup | ||
1.一种抑制BaSi2O2N2: Eu2+荧光粉中Eu3+数量的方法,其特征在于,制备BaSi2O2N2: Eu2+荧光粉的原料中包括三价金属氧化物M2O3;
M为Er、Dy、Tm中的至少一种;
制备BaSi2O2N2: Eu2+荧光粉的原料组分包括BaCO3、Eu2O3、M2O3、SiO2和Si3N4,摩尔比为(2-2x-3y):x:y:1:1,制备得到的BaSi2O2N2: Eu2+荧光粉的化学通式为Ba1-x-1.5yMySi2O2N2:xEu2+;其中,0.01≤x≤0.04,0.001≤y≤0.04;
包括下述过程:
按化学计量比称取原料组分BaCO3、Eu2O3、M2O3、SiO2和Si3N4,研磨混合均匀,得到的混合物粉体;
将混合物粉体在还原气氛下进行高温烧结;
烧结完成后,冷却至室温,研磨。
2.根据权利要求1所述的抑制BaSi2O2N2: Eu2+荧光粉中Eu3+数量的方法,其特征在于,所述还原气氛为氢气还原气氛。
3.根据权利要求1所述的抑制BaSi2O2N2: Eu2+荧光粉中Eu3+数量的方法,其特征在于,高温烧结的烧结温度为1200~1600℃,烧结时间为2~10h。
4.根据权利要求3所述的抑制BaSi2O2N2: Eu2+荧光粉中Eu3+数量的方法,其特征在于,高温烧结的烧结温度为1300~1500℃,烧结时间为5~7h。
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