[发明专利]一种用于细胞培养板的介质阻挡放电等离子体设备在审

专利信息
申请号: 202110548970.5 申请日: 2021-05-20
公开(公告)号: CN113438793A 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 汪嵘;黄永海;王井彩 申请(专利权)人: 安徽中科大禹科技有限公司
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 靳魁
地址: 233000 安徽省蚌埠市中国(安徽)自由贸易试验区*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 细胞培养 介质 阻挡 放电 等离子体 设备
【说明书】:

发明属于等离子体设备技术领域,具体的说是一种用于细胞培养板的介质阻挡放电等离子体设备,包括介质阻挡放电等离子体设备本体;所述介质阻挡放电等离子体设备本体的底部设置有底座;所述底座内设置有升降机构;所述升降机构包括支撑板、二号杆和凸轮;所述底座的顶部开设有一号凹槽;所述支撑板固接在介质阻挡放电等离子体设备本体的底部,且支撑板与一号凹槽内壁滑动连接;所述一号杆转动连接在一号凹槽的内壁;所述一号杆的一端贯穿底座的侧壁,且固接有L形杆;所述凸轮套设于二号杆并且与二号杆固接;能够调节介质阻挡放电等离子体设备本体所在的高度,使得本设备适应不同身高的人群。

技术领域

本发明属于等离子体设备技术领域,具体的说是一种用于细胞培养板的介质阻挡放电等离子体设备。

背景技术

等离子体也称作电浆,是由部分电子被剥夺后的原子及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气体状物质,它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态;大气压介质阻挡放电(DBD)等离子体中含有大量的电子、离子、激发态原子和分子及自由基等活性粒子、以及电场、紫外线,能在较短时间内达到很高的灭菌效率,并不损害灭菌物质表面结构,同时具备低温,易操作等优点,受到越来越多的关注。

现有的介质阻挡放电等离子体设备一般是直接放置在地面上,其自身的高度是不变的,而当不同身高的人群使用这种设备时,尤其是身高不足的人,会出现够不着的现象,也无法观察其工作的情况;为此,本发明提供一种用于细胞培养板的介质阻挡放电等离子体设备。

发明内容

为了弥补现有技术的不足,解决现有的介质阻挡放电等离子体设备一般是直接放置在地面上,其自身的高度是不变的,而当不同身高的人群使用这种设备时,尤其是身高不足的人,会出现够不着的现象,也无法观察其工作的情况的问题,本发明提出的一种用于细胞培养板的介质阻挡放电等离子体设备。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:本发明所述的一种用于细胞培养板的介质阻挡放电等离子体设备,包括介质阻挡放电等离子体设备本体;所述介质阻挡放电等离子体设备本体的底部设置有底座;所述底座内设置有升降机构;所述升降机构包括支撑板、二号杆和凸轮;所述底座的顶部开设有一号凹槽;所述支撑板固接在介质阻挡放电等离子体设备本体的底部,且支撑板与一号凹槽内壁滑动连接;所述一号杆转动连接在一号凹槽的内壁;所述一号杆的一端贯穿底座的侧壁,且固接有L形杆;所述凸轮套设于二号杆并且与二号杆固接;使用时,由于操作者身高的不同,需要调节介质阻挡放电等离子体设备本体的高度,首先通过L形杆转动一号杆,使得凸轮开始推动支撑板向上滑动,进而使得介质阻挡放电等离子体设备本体向上运动,于是实现调节介质阻挡放电等离子体设备本体所在高度的功能。

进一步,所述一号凹槽的内部设置有导向机构;所述导向机构包括导柱和二号板;所述一号凹槽的内壁开设有滑槽;所述导柱固接在滑槽内;所述二号板固接在支撑板的侧壁;所述导柱贯穿二号板并且与二号板滑动连接;所述二号板与滑槽的底部固接有二号弹簧;使用时,当支撑板在凹槽内滑动时,二号板一边在滑槽内滑动,一边沿着导柱滑动,使得支撑板平稳地在凹槽内滑动,进而使得介质阻挡放电等离子体设备本体平稳地向上滑动,减少介质阻挡放电等离子体设备本体在上下滑动时受到的震动。

进一步,所述L形杆内开设有一号孔;所述一号孔内滑动连接有三号杆;所述三号杆位于一号孔内的一端固接有伸缩板;所述伸缩板通过三号弹簧与一号孔的内壁固接;所述一号孔的内壁对称开设有两个二号凹槽;所述二号凹槽内滑动连接有推板;所述推板远离一号孔的一侧固接有推杆;所述推杆的另一端固接有压板;所述推板远离一号孔的一侧固接有四号弹簧;所述底座的外侧壁开设有二号孔;所述三号杆与二号孔呈间隙配合状态;L形杆在转动时,伸缩板的两侧位于二号凹槽内,而三号弹簧处于压缩状态;当介质阻挡放电等离子体设备本体到达指定位置后,挤压压板,使得推杆和推板挤压伸缩板,于是伸缩板竖直方向的长度缩短,此时由于三号弹簧的作用,使得三号杆沿着靠近底座外侧壁的方向移动,并且使得三号杆插入二号孔内,实现对L形杆位置的限定,使得凸轮一直处于挤压支撑板的状态,从而介质阻挡放电等离子体设备本体稳定地停留在该位置。

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