[发明专利]一种显示面板、显示装置以及制作方法在审

专利信息
申请号: 202110543620.X 申请日: 2021-05-19
公开(公告)号: CN113517321A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 孔超;张如芹;曹鹏;袁德 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L21/77
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 张帆
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 显示装置 以及 制作方法
【权利要求书】:

1.一种显示面板,包括衬底、依次层叠设置在所述衬底上的驱动电路层、发光器件层、封装层和彩膜层,所述发光器件层包括阵列排布的多个像素,每个像素包括多个子像素,其特征在于,

还包括设置在所述衬底上的调整层,用于调整所述发光器件层的各子像素的出光角度以使得所述各子像素的出光角度大于预设置的角度阈值。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述调整层包括第一调整子层和第二调整子层;

所述彩膜层包括:

与所述各子像素的发光材料对应的第一彩色滤光片;

作为所述第一调整子层的黑矩阵,所述黑矩阵环绕所述第一彩色滤光片,相邻所述第一彩色滤光片之间的黑矩阵在垂直于衬底方向的截面图中的宽度为预设宽度阈值;以及

设置在所述黑矩阵远离所述衬底一侧的作为所述第二调整子层的第一触控结构层;其中

所述黑矩阵在所述衬底上的正投影覆盖所述第一触控结构层在所述衬底上的正投影。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一触控结构层在垂直于衬底方向的截面图中的宽度小于所述预设宽度阈值;

所述第一触控结构层包括设置在所述黑矩阵上的第一触控结构子层和作为所述第二调整子层的覆盖所述第一触控结构子层的不透明的辅助膜层,所述辅助膜层的反射率小于等于预设反射率阈值;

或者

所述第一触控结构层包括设置在所述黑矩阵上的不透明的第二触控结构子层,所述第二触控结构子层的反射率小于等于预设反射率阈值。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述调整层包括第三调整子层;

所述彩膜层包括:

与所述各子像素的发光材料对应的第二彩色滤光片;以及

作为所述第三调整子层的不透明的第二触控结构层,所述第二触控结构层环绕所述第二彩色滤光片,相邻所述第二彩色滤光片之间的第二触控结构层在垂直于衬底方向的截面图中的宽度为预设宽度阈值。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,

所述第二触控结构层包括设置在所述封装层上的第三触控结构子层和作为所述第三调整子层的覆盖所述第三触控结构子层的不透明的辅助膜层,所述辅助膜层的反射率小于等于预设反射率阈值;

或者

所述第二触控结构层包括设置在所述封装层上的不透明的第四触控结构子层,所述第四触控结构子层的反射率小于等于预设反射率阈值。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述调整层包括第四调整子层和第五调整子层;

所述发光器件层包括:

所述各子像素的发光材料;以及

环绕所述发光材料的且作为所述第四调整子层的不透明像素界定层,所述不透明像素界定层的反射率小于等于预设反射率阈值;

所述彩膜层包括:

与所述各子像素的发光材料对应的第三彩色滤光片;以及

作为所述第五调整子层的不透明的第三触控结构层,所述第三触控结构层环绕所述第三彩色滤光片,相邻所述第三彩色滤光片之间的第三触控结构层在垂直于衬底方向的截面图中的宽度小于预设宽度阈值;

所述不透明像素界定层在所述衬底上的正投影覆盖所述第三触控结构层在所述衬底上的正投影。

7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,

所述第三触控结构层包括设置在所述封装层上的第五触控结构子层和作为所述第五调整子层的覆盖所述第五触控结构子层的不透明的辅助膜层,所述辅助膜层的反射率小于等于预设反射率阈值;

或者

所述第三触控结构层包括设置在所述封装层上的不透明的第六触控结构子层,所述第六触控结构子层的反射率小于等于预设反射率阈值。

8.根据权利要求3、5、7中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述辅助膜层为导电材料或非导电材料;

和/或

所述辅助膜层为碳化物薄膜、黑色聚酰亚胺树脂材料、石墨、金属氧化物材料中的一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110543620.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top