[发明专利]基站和清洁系统在审

专利信息
申请号: 202110541142.9 申请日: 2021-05-18
公开(公告)号: CN113331752A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 于光 申请(专利权)人: 北京石头世纪科技股份有限公司
主分类号: A47L11/40 分类号: A47L11/40
代理公司: 北京中强智尚知识产权代理有限公司 11448 代理人: 黄耀威
地址: 100085 北京市海淀区黑泉路8号1*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基站 清洁 系统
【权利要求书】:

1.一种基站,用于可移动清洁设备,其特征在于,所述基站包括:

本体;

至少一个储液部,设置于所述本体的外部,与所述本体可拆卸连接,用于容置液体。

2.根据权利要求1所述的基站,其特征在于,

任一所述储液部和所述本体中的一个上设置有限位部,另一个上设置有定位部,所述定位部和所述限位部相适配或分离能够使所述储液部和所述本体连接或分离。

3.根据权利要求2所述的基站,其特征在于,还包括:

第一连接部,设置于所述储液部,所述第一连接部包括水管、气管、电连接件中的至少一个;

所述本体设置有与所述第一连接部相匹配的第二连接部;

其中,基于所述限位部与所述定位部相适配,所述第一连接部和所述第二连接部连接。

4.根据权利要求3所述的基站,其特征在于,基于所述第一连接部包括水管和/或气管,所述基站还包括:

密封件,设置于所述第一连接部朝向所述第二连接部的一端,或设置于所述第二连接部朝向所述第一连接部的一端,用于在所述限位部与所述定位部适配时,密封所述第二连接部和所述第一连接部之间的缝隙。

5.根据权利要求3所述的基站,其特征在于,

所述限位部包括凹槽结构,所述定位部包括凸起结构,所述凹槽结构和所述凸起结构设置为在所述储液部的重力作用下相抵接。

6.根据权利要求5所述的基站,其特征在于,

所述凸起结构设置于所述本体的顶部,所述凹槽结构设置于所述储液部的底部;

所述第一连接部设置于所述凹槽结构内,所述第二连接部设置于所述凸起结构上。

7.根据权利要求6所述的基站,其特征在于,

所述储液部的数量为至少两个,所述凸起结构包括与所述至少两个储液部相对应的一个第一凸起结构和至少一个第二凸起结构,所述第一凸起结构和所有所述第二凸起结构为一体结构。

8.根据权利要求2至7中任一项所述的基站,其特征在于,

所述限位部包括锁槽,所述定位部包括锁钩,所述锁钩包括位于锁槽内的锁定状态和脱离所述锁槽的解锁状态。

9.根据权利要求2至7中任一项所述的基站,其特征在于,

所述本体包括第一抵接部,所述储液部包括第二抵接部;

基于所述限位部与所述定位部相适配,所述第一抵接部和所述第二抵接部相抵接,且所述第一抵接部的外壁面与所述第二抵接部的外壁面相邻的部分平齐设置。

10.一种清洁系统,其特征在于,包括:

可移动清洁设备;以及

如权利要求1至9中任一项所述的基站,所述基站与所述可移动清洁设备通信连接。

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