[发明专利]一种电磁热耦合的热电化学氧化的设备在审

专利信息
申请号: 202110539722.4 申请日: 2021-05-18
公开(公告)号: CN113151875A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 李昊旻;雷厉;王连可 申请(专利权)人: 西比里电机技术(苏州)有限公司
主分类号: C25D11/02 分类号: C25D11/02;C25D17/00;C25D21/02
代理公司: 江苏昆成律师事务所 32281 代理人: 刘尚轲
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 电磁 耦合 热电 化学 氧化 设备
【说明书】:

本申请提供电磁热耦合的热电化学氧化的设备,包括:电解池、电解槽、电磁热耦合部、热电化学氧化电源和温控系统,所述电解槽在电解池的内部,电解槽为中空的圆筒,电解池中的电解液漫过电解槽,电磁热耦合部与电解槽连接,电磁热耦合部用于通过磁场控制电解槽中的带电粒子的定向运动,电磁热耦合部由螺旋线圈和电流源组成,螺旋线圈为绝缘导线螺旋缠绕在电解槽的外壁而形成,螺旋线圈的两端与电流源连接,热电化学氧化电源的正极与工件连接、负极与电解槽连接,工件为阀金属或者为外表面为阀金属的导电金属,工件在电解槽中进行热电化学氧化、在工件表面原位生长氧化陶瓷层,所述温控系统与电解池连接,用于控制电解池中的电解液的温度。

技术领域

发明涉及热电化学氧化技术领域,具体的,本发明涉及一种电磁热耦合的热电化学氧化的设备。

背景技术

热电化学氧化是近几年国内外发展较快的一种新的表面处理技术,它是在阳极氧化基础上发展起来的,又称为微等离子体氧化、等离子热电化学氧化、等离子体增强电化学表面陶瓷化等。热电化学氧化采用较高的工作电压,阀金属工件作为阳极,电解池作为阴极,通过专门的电源在阴极和阳极施加电压,将电压的工作区域由普通的阳极氧化法的法拉第区域,引入到高压放电区域,利用弧光放电产生的瞬时高温高压作用下,使阳极上发生的反应,致使在阀金属工件表面出现电晕、辉光、微弧放电、甚至火花斑,在阀金属表面原位形成一层致密的氧化陶瓷膜/层,进而达到工件表面改性强化。

在现有技术中,电解液中的溶液电阻较大,电解液的流动性差,对热电化学氧化的陶瓷层的性能具有影响。为了促进电解液的循环和均匀性,现有技术在电解池外加上超声波,使得溶液电阻得到相应的降低,促进电解液的循环和均匀性,推动了热电化学氧化初期的进行,提升工件表面的陶瓷层的性能,但是超声波的成本高,难以得到实际的应用。并且现有技术的电能耗和电解液的冷却功耗大,导致热电化学氧化的工件的成本高,阻碍了本领域的发展应用。

有鉴于此,本发明提供一种电磁热耦合的热电化学氧化的设备,提高热电化学氧化时工件表面原位生长的陶瓷层的性能,并且节能。

发明内容

本发明的目的在于,提供一种电磁热耦合的热电化学氧化的设备,提高热电化学氧化时工件表面原位生长的陶瓷层的性能,并且节能。

本申请的电磁热耦合的热电化学氧化的设备,第一方面,在电解槽外设置电磁热耦合部,电磁热耦合部通过绝缘导线螺旋缠绕在电解槽的外壁(螺旋线圈),再给螺旋线圈施加电流源,螺旋线圈产生磁场控制电解槽2中的带电粒子的定向运动,从而提高热电化学氧化时工件表面原位生长的陶瓷层的性能,陶瓷层更均匀、致密、表面更光滑。第二方面,在现有技术中,电解池中的电解槽有两个,两个电解槽分别与热电化学氧化电源连接才能进行热电化学氧化,而本申请将电解槽设计为一个,减少了一个电解槽,减少了约50%的电能耗,热电化学氧化通过将热电化学氧化电源的阳极与铜排连接、阴极与电解槽连接得以实现。第三方面,本申请的电解池是不带电的,工件经过电解槽时,电解槽内的电解液才产生热能,产生的热能显著小于现有技术,因此冷却功耗也降低。第四方面,在现有技术中,一般只有冷却系统,本申请还包括加热系统,利于增大电解液的温度范围,电解液高温和低温各有自身的优势。本申请人在此基础上完成了本申请。

一种电磁热耦合的热电化学氧化的设备,包括:电解池1、电解槽2、电磁热耦合部3、热电化学氧化电源4和温控系统5,所述电解槽2在电解池1的内部,电解槽2为中空的圆筒,电解池1用于盛装电解液,电解液漫过电解槽2,电磁热耦合部3与电解槽2连接,电磁热耦合部3用于通过磁场控制电解槽2中的带电粒子的定向运动,所述电磁热耦合部3由螺旋线圈31和电流源32组成,螺旋线圈31为绝缘导线螺旋缠绕在电解槽2的外壁而形成,螺旋线圈31的两端与电流源32连接,热电化学氧化电源4的正极与工件连接,热电化学氧化电源4的负极与电解槽2连接,所述工件为阀金属或者为外表面为阀金属的导电金属,工件在电解槽2中进行热电化学氧化、在工件表面原位生长氧化陶瓷层,所述温控系统5与电解池1连接,用于控制电解池1中的电解液的温度。

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