[发明专利]一种等离子体接枝共聚膜层的镀膜装置

权利要求书

1.一种等离子体接枝共聚膜层的镀膜装置，具备射频电源、反应单元、抽气单元及配气单元；其中，

所述反应单元内部形成为供反应的腔室；

所述射频电源安装于所述反应单元外部且与所述反应单元的腔室连通，用以产生等离子体；

所述抽气单元安装于所述反应单元外部且与所述反应单元的腔室连通，用以抽取所述反应单元内的气体；

所述配气单元安装于所述反应单元外部且通过供给管路与所述反应单元的腔室连通，用以加入作为接枝共聚膜层气源的单体蒸汽；

所述反应单元具备：安装于所述反应单元内部且与所述射频电源连接的电极板，以靠近所述电极板的形式安装于所述反应单元内部的平面的石英板，设置于所述石英板朝向所述射频电源的面上的狭缝天线，由所述石英板和所述反应单元内壁所包围的反应腔室；

所述狭缝天线在所述石英板上平行排列多条，通过改变所述狭缝天线的尺寸和阵列分布来改变激励强度。

2.根据权利要求1所述的等离子体接枝共聚膜层的镀膜装置，其特征在于，

所述电极板为铜板，所述石英板为石英玻璃板或石英陶瓷板，所述狭缝天线为铝制。

3.根据权利要求1所述的等离子体接枝共聚膜层的镀膜装置，其特征在于，

所述电极板与所述石英板分别通过PTFE绝缘加工件固定于所述反应单元内。

4.根据权利要求3所述的等离子体接枝共聚膜层的镀膜装置，其特征在于，

所述配气单元具备用以向所述反应腔室供给单体蒸汽的单体蒸汽管路；所述单体蒸汽管路一端与单体蒸汽源连接，另一端与所述反应单元相连。

5.根据权利要求4所述的等离子体接枝共聚膜层的镀膜装置，其特征在于，

所述反应单元上设有分别与所述单体蒸汽管路连通的两个单体蒸汽供给端口，对称地设置于所述反应单元两侧。

6.根据权利要求4所述的等离子体接枝共聚膜层的镀膜装置，其特征在于，

所述配气单元还具备独立于所述单体蒸汽管路的工艺气体管路；

所述工艺气体管路一端与工艺气体源连接，另一端与所述反应单元相连，用于将工艺气体导入所述反应腔室。

7.根据权利要求6所述的等离子体接枝共聚膜层的镀膜装置，其特征在于，

所述反应单元上设有分别与所述工艺气体管路连通的两个工艺气体供给端口，对称地设置于所述反应单元两侧。