[发明专利]一种表面轮廓成像装置及成像方法有效
申请号: | 202110536383.4 | 申请日: | 2021-05-17 |
公开(公告)号: | CN113267142B | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 王毅;张鑫超;彭思龙;汪雪林;顾庆毅;王一洁;赵效楠;郭晓锋 | 申请(专利权)人: | 东北大学秦皇岛分校;苏州中科行智智能科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 北京精金石知识产权代理有限公司 11470 | 代理人: | 刘俊玲 |
地址: | 066004 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 表面 轮廓 成像 装置 方法 | ||
本发明公开了一种表面轮廓成像装置及方法,涉及光学干涉检测技术,低相干光源发出的光束进入耦合器再进入扫描模块,经过扫描模块后的光束进入3D成像模块;3D成像模块中的分光棱镜将光束分成样品光和参考光,参考光进入参考光模块;由样品和参考光模块反射的光束经原路返回至耦合器,返回至耦合器的光束从耦合器的另一端进入光谱仪形成干涉光谱;由计算机处理形成样品表面的3D轮廓分布;2D成像模块采集样品表面2D图像并将信号传至计算机。本发明使用相对较窄的低相干光源,实现大测量范围高分辨率测量及成像,且成本低;2D成像和3D成像结果融合,实现3D结构和2D彩色双模式成像。
技术领域
本发明涉及光学干涉检测技术,尤其是涉及一种表面轮廓成像装置及成像方法。
背景技术
表面轮廓成像在工业产品检测、机械制造、半导体电子工业等领域均有非常重要的应用,是保证和提高机械、电子及光学系统性能、质量和寿命的关键因素之一。光学干涉技术具有非接触及分辨率高的优点,可以达到纳米及亚纳米的分辨率,但是其纵向测量范围(以下简称为测量范围)受到限制,如相移干涉法,只适合于表面高度变化较小的情况。
光学相干层析(optical coherence tomography,OCT)利用相干长度较短的低相干光源,具有深度分辨能力。OCT可分为时域OCT(TDOCT)和谱域OCT(SDOCT)。SDOCT虽然具有深度分辨能力,但是存在测量范围和分辨率之间的矛盾,利用频率可以实现较大测量范围(毫米数量级),但是精度较低(十几微米);使用相位,分辨率达到纳米及亚纳米,但是测量范围较小(几十微米)。目前,基于TDOCT的垂直扫描干涉技术已经是一种成熟的表面轮廓成像方法,但是垂直扫描干涉技术需要进行探测臂或参考臂的深度扫描,限制了成像速度,为应用带来不便。SDOCT不需要进行深度扫描,可以实现高速检测及成像。传统SDOCT的解调方法是傅里叶变换(FFT),频率和深度成正比, FFT的理论分辨率由光谱仪带宽决定,等于,为光谱仪所对应的波数宽度,需要超宽带低相干光源才能实现微米分辨率,无法实现纳米级分辨率,而且超宽带低相干光源价格昂贵。在SDOCT,也可以利用相位信息,通过相位去卷绕,提高测量范围,但这种方法需要进行多次迭代运算,速度较慢。另外,在去卷绕方法中,由于探测光的波长较短(亚微米),测量范围超过半波长,即产生相位卷绕,因此在大范围测量中(毫米数量级),由于较大噪声存在,噪声对去卷绕的影响较大,因此误差较大。
中国专利CN109297595B公开了一种光学相干层析相位解卷绕的方法及装置,其成像范围为2π/Δk,一般为几微米到几十微米,成像范围比较小;而且这种方法需要进行多次迭代运算,速度较慢;同时该发明利用相位去卷绕增加测量范围的方法,但是由于非卷绕范围为二分之一波长,为几百个纳米,因此在大范围测量中,由于较大噪声存在,噪声对去卷绕的影响较大,误差较大。
中国专利CN106580258B公开了一种宽谱高分辨率光学相干层析成像系统,该发明使用的是时域方法,在进行每一点检测时,需要参考臂深度扫描,限制了成像速度,为应用带来不便;同时,该方法通过使用超宽带光源提高分辨率,超宽带光源价格昂贵,限制了其在表面轮廓成像的应用。
综上所述,仍存在以上技术问题。
发明内容
为了解决在大范围测量中(毫米数量级),由于较大噪声存在,噪声对去卷绕的影响较大,误差较大的问题,本发明提供了一种表面轮廓成像装置及解调方法。
为了实现使用相对较窄的低相干光源,实现大测量范围(毫米数量级)高分辨率(纳米数量级)测量及成像的目的,本发明采用的技术方案如下:
一种表面轮廓成像装置,包括低相干光源,耦合器,扫描模块,3D成像模块,参考光模块,样品,光谱仪,计算机,2D成像模块;
所述低相干光源、耦合器、扫描模块、3D成像模块和样品依次设置,其中,所述低相干光源与耦合器光纤连接;所述耦合器与扫描模块光纤连接;
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