[发明专利]一种光调制组件、荧光显微镜及芯片检测系统及方法

权利要求书

1.一种光调制组件，其特征在于，包括：

激发光源(1)；

扩束准直系统(2)，位于所述激发光源(1)的一侧，用于将所述激发光源(1)发出的激发光转换成平行光束；

线性偏振器(3)，位于所述扩束准直系统(2)远离所述激发光源(1)的一侧，用于对所述平行光束进行偏振态调节；

空间光调制器(4)，其加载有与目标振幅分布匹配的相位掩膜板，所述空间光调制器(4)位于所述线性偏振器(3)远离所述扩束准直系统(2)的一侧，用于基于所述相位掩膜板对偏振态调节后的平行光束进行调制并反射调制光束，所述相位掩膜板是一种虚拟的相位掩膜板，是借助于所述空间光调制器所实现的相位分布，所述相位掩膜板的相位分布根据目标振幅分布计算得到，所述目标振幅分布是待测微阵列芯片所需要的点激发模式；

光学傅里叶变换系统(5)，位于所述空间光调制器(4)的反射光路上，用于对所述调制光束进行光学傅里叶变换，以得到目标振幅分布的微阵列点阵光源。

2.根据权利要求1所述的光调制组件，其特征在于，所述光学傅里叶变换系统(5)是傅里叶透镜。

3.根据权利要求2所述的光调制组件，其特征在于，所述微阵列点阵光源所形成的图样为正方形，所述图样的边长与傅里叶透镜的焦距、波长以及空间光调制器的像素尺寸之间的关系式如下：

p＝λf/l

其中，p为所述图样的边长，λ为波长，f为傅里叶透镜的焦距，l为空间光调制器的像素尺寸；

所述图样的微阵列点阵中两点间的实际间隔所对应的像素距离ΔL为

其中，Δl为所述图样的微阵列点阵中两点间的实际距离，d是傅里叶透镜输出端的像素分辨率。

4.根据权利要求1所述的光调制组件，其特征在于，所述空间光调制器(4)是相位型液晶空间光调制器。

5.根据权利要求1所述的光调制组件，其特征在于，所述扩束准直系统(2)是开普勒式扩束准直系统。

6.一种荧光显微镜，其特征在于，包括：

权利要求1至5中任一项所述的光调制组件。

7.根据权利要求6所述的荧光显微镜，其特征在于，还包括：

照明光源(11)，用于发出照明光束照射待测微阵列芯片，所述待测微阵列芯片位于光学傅里叶变换系统(5)远离空间光调制器(4)的一侧。

8.根据权利要求6或7所述的荧光显微镜，其特征在于，还包括：

物镜(7)，位于待测微阵列芯片远离光学傅里叶变换系统(5)的一侧，用于收集所述待测微阵列芯片产生的荧光信息，或者收集照明光源(11)照射所述待测微阵列芯片时的芯片图像信息；

荧光滤光片(8)，位于所述物镜(7)远离所述待测微阵列芯片的一侧，用于滤除激发光；

目镜(9)，位于所述荧光滤光片(8)远离所述物镜(7)的一侧，用于成像；

相机(10)，位于所述目镜(9)远离所述荧光滤光片(8)的一侧，用于记录荧光图像或者芯片图像。

9.一种芯片检测方法，其特征在于，包括：

根据所述待测微阵列芯片的预设标记识别所述待测微阵列芯片及其位置信息；

根据所述待测微阵列芯片及其位置信息生成目标振幅分布；

根据所述目标振幅分布确定与目标振幅分布匹配的相位掩膜板；

将所确定的相位掩膜板加载至权利要求1至5中任一项所述光调制组件的空间光调制器(4)，或者权利要求6至8中任一项所述荧光显微镜的空间光调制器(4)。

10.根据权利要求9所述的芯片检测方法，其特征在于，所述根据所述待测微阵列芯片的预设标记识别所述待测微阵列芯片及其位置信息，包括：

获取待测微阵列芯片的芯片图像；

识别所述芯片图像上的预设标记，确定待测微阵列芯片及其位置信息。