[发明专利]一种激光退火设备及激光退火方法有效
| 申请号: | 202110535988.1 | 申请日: | 2021-05-17 |
| 公开(公告)号: | CN113421836B | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
| 发明(设计)人: | 刘金彪;罗军;李俊峰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/268 |
| 代理公司: | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人: | 王志炜;王胜利 |
| 地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 激光 退火 设备 方法 | ||
1.一种激光退火设备,其特征在于,包括:激光器、密封腔、设置在所述密封腔内的旋转承载机构、以及与所述密封腔驱动连接的直线移动机构;所述旋转承载机构用于承载单个待退火元件;
所述激光器与所述密封腔分离设置,用于向所述待退火元件发射退火激光;
所述旋转承载机构用于驱动所述待退火元件相对所述激光器旋转;所述旋转承载机构包括承载台以及与所述承载台驱动连接的旋转驱动机构,所述旋转驱动机构设在所述密封腔上,用于驱动所述承载台旋转;所述承载台为圆台,所述旋转承载机构的旋转轴线与所述圆台的中心轴线重合;当所述待退火元件安装在所述承载台上,所述圆台的中心轴线的延长线穿过所述待退火元件的重心;所述激光器发射的退火激光的移动轨迹经过所述圆台的中心;
所述直线移动机构用于驱动所述密封腔沿直线方向做往复运动,以使所述待退火元件相对所述激光器作直线运动;所述直线方向与所述旋转承载机构的旋转轴线不平行;
所述密封腔的内壁具有硅涂层和二氧化硅涂层中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的激光退火设备,其特征在于,所述直线方向与所述旋转承载机构的旋转轴线垂直;和/或,
所述旋转承载机构的转速为1RPM~8000RPM;和/或,
所述激光器发射的激光形成在所述待退火元件表面的光斑为线斑;其中,所述线斑的尺寸为10um×1mm~1mm×5mm。
3.根据权利要求1所述的激光退火设备,其特征在于,所述直线移动机构包括:
与所述密封腔滑动连接的直线轨道;
以及与所述密封腔驱动连接的驱动机构,所述驱动机构用于驱动所述密封腔在所述直线轨道上移动。
4.根据权利要求3所述的激光退火设备,其特征在于,所述直线轨道为磁浮式轨道或气浮式轨道。
5.根据权利要求1所述的激光退火设备,其特征在于,所述旋转承载机构还包括用于吸附所述待退火元件的真空吸附组件,所述真空吸附组件设在所述承载台上。
6.根据权利要求1~4任一项所述的激光退火设备,其特征在于,所述密封腔具有供所述激光器的激光穿过的入光部,所述入光部的材质为透明材质;和/或,
所述激光退火设备还包括与所述密封腔连通的抽真空装置,所述抽真空装置用于为所述密封腔提供负压环境;和/或,
所述激光退火设备还包括与所述密封腔连通的供压装置,所述供压装置用于为所述密封腔提供正压环境。
7.根据权利要求1~4任一项所述的激光退火设备,其特征在于,所述激光退火设备还包括设在所述密封腔内的至少一个辐射式加热装置;其中,
所述至少一个辐射式加热装置设在所述密封腔的底壁和/或侧壁,用于对所述待退火元件进行加热。
8.一种激光退火方法,其特征在于,应用于权利要求1~7任一项所述的激光退火设备中,所述激光退火方法包括:
在所述激光器对所述待退火元件进行退火的情况下,控制所述旋转承载机构旋转,以使所述待退火元件相对所述激光器旋转,并控制所述直线移动机构沿直线方向往复运动,以使所述待退火元件相对所述激光器作直线运动。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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