[发明专利]一种线轮廓成像装置的解调方法及成像装置有效
申请号: | 202110535064.1 | 申请日: | 2021-05-17 |
公开(公告)号: | CN113251945B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 王毅;施家正;彭思龙;汪雪林;顾庆毅;赵效楠;王一洁;郭晓锋 | 申请(专利权)人: | 东北大学秦皇岛分校;苏州中科行智智能科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 |
代理公司: | 北京精金石知识产权代理有限公司 11470 | 代理人: | 尉月丽 |
地址: | 066004 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 轮廓 成像 装置 解调 方法 | ||
1.一种线轮廓成像装置的解调方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1:被测样品上线形光斑的各点坐标为y1,光谱仪获取干涉图像I(y;K),所述干涉图像的横坐标表示y,纵坐标为波数,y和y1一一对应,所述干涉图像的一列即为所述被测样品上所述线形光斑一点的干涉光谱;对所述干涉图像I(y;K)每一列的所述干涉光谱单独处理;
S2:选取所述干涉图像I(y;K)某一列的所述干涉光谱作为待分析光谱,对所述待分析光谱依次进行滤波、消除直流分量、强度归一化、傅里叶变换,得到所述待分析光谱的幅度谱,获取所述幅度谱的极大值点横坐标序数M(y);
S3:将所述待分析光谱均分为左右两个分光谱,计算两个所述分光谱的相位θ1(y)和θ2(y);
S4:通过下式计算所述待分析光谱的线轮廓分布:
其中,Kc1、Kc2分别为两个所述分光谱的中心波数,为对进行四舍五入取整运算,通过下式计算:
S5:判断是否出错,若是,则对进行修正;若否,则完成解调,得到所述待分析光谱对应的所述y1的轮廓分布;
所述S5中,通过如下方式判断是否出错:当成立时,判断结果为是;当不成立时,判断结果为否;
其中,为光谱仪所对应的波数宽度;
所述S5中,通过如下方式对进行修正:
。
2.一种线轮廓成像装置,用于实现权利要求1所述的线轮廓成像装置的解调方法,其特征在于:包括线形光发生装置、光接收装置、分光片、反射镜、信号处理装置,所述线形光发生装置产生的线形光为低相干光,所述分光片设置于所述线形光发生装置与所述反射镜之间,所述反射镜的反射面垂直于所述线形光发生装置的光轴,所述分光片能够使入射光部分反射、部分透射,所述光接收装置用于接收由所述线形光发生装置射出的光线;所述信号处理装置与所述光接收装置通信连接,所述信号处理装置通过所述解调方法对所述光接收装置的信号进行解调。
3.如权利要求2所述的一种线轮廓成像装置,其特征在于:所述线形光发生装置包括低相干光源、准直透镜、柱状透镜,所述低相干光源、准直透镜、柱状透镜沿所述线形光发生装置的光轴依次排列。
4.如权利要求2所述的一种线轮廓成像装置,其特征在于:所述光接收装置包括柱状透镜、光谱仪。
5.如权利要求2所述的一种线轮廓成像装置,其特征在于:所述信号处理装置根据所述光接收装置所采集的信息返回表面轮廓数据。
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