[发明专利]一种可实现重复应力发光的异质结构材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110534204.3 申请日: 2021-05-17
公开(公告)号: CN113355094A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 涂东;杨秀霞 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: C09K11/78 分类号: C09K11/78
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 代理人: 李景
地址: 430072*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 重复 应力 发光 结构 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1,称取碳酸盐、氧化铌和氧化镨混合研磨,得到混合粉料;

S2,将步骤S1的混合粉料置于空气氛围中焙烧,焙烧完成后,冷却至室温,研磨,即得到异质结构材料。

2.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述碳酸盐选用碳酸锂、碳酸钠中的任一种或两者的混合物。

3.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述氧化铌选用五氧化二铌。

4.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述碳酸盐与氧化铌的摩尔比为1:1。

5.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S1中,研磨的方式为湿磨,湿磨过程中加入的有机溶剂为乙醇,碳酸盐、氧化铌和氧化镨的总体积与有机溶剂的体积比为1:1。

6.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S2中,焙烧的温度为1000-1200℃,焙烧时间为6-9h。

7.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S2中,焙烧的温度为1150℃,焙烧时间为8h。

8.一种利用权利要求1-7任一项所述制备方法制得的异质结构材料,其特征在于,所述异质结构材料的结构式为Li1-xNaxNbO3:yPr3+,其中0≤x≤1,0y0.02。

9.根据权利要求8所述的异质结构材料,其特征在于,所述异质结构材料的结构式为Li0.5Na0.5NbO3:0.01Pr3+

10.根据权利要求8所述的异质结构材料,其特征在于,所述异质结构材料的发光波段为611-619nm。

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