[发明专利]一种可实现重复应力发光的异质结构材料及其制备方法在审
申请号: | 202110534204.3 | 申请日: | 2021-05-17 |
公开(公告)号: | CN113355094A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 涂东;杨秀霞 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | C09K11/78 | 分类号: | C09K11/78 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 李景 |
地址: | 430072*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 实现 重复 应力 发光 结构 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1,称取碳酸盐、氧化铌和氧化镨混合研磨,得到混合粉料;
S2,将步骤S1的混合粉料置于空气氛围中焙烧,焙烧完成后,冷却至室温,研磨,即得到异质结构材料。
2.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述碳酸盐选用碳酸锂、碳酸钠中的任一种或两者的混合物。
3.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述氧化铌选用五氧化二铌。
4.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述碳酸盐与氧化铌的摩尔比为1:1。
5.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S1中,研磨的方式为湿磨,湿磨过程中加入的有机溶剂为乙醇,碳酸盐、氧化铌和氧化镨的总体积与有机溶剂的体积比为1:1。
6.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S2中,焙烧的温度为1000-1200℃,焙烧时间为6-9h。
7.根据权利要求1所述的可实现重复应力发光的异质结构材料的制备方法,其特征在于,步骤S2中,焙烧的温度为1150℃,焙烧时间为8h。
8.一种利用权利要求1-7任一项所述制备方法制得的异质结构材料,其特征在于,所述异质结构材料的结构式为Li1-xNaxNbO3:yPr3+,其中0≤x≤1,0y0.02。
9.根据权利要求8所述的异质结构材料,其特征在于,所述异质结构材料的结构式为Li0.5Na0.5NbO3:0.01Pr3+。
10.根据权利要求8所述的异质结构材料,其特征在于,所述异质结构材料的发光波段为611-619nm。
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