[发明专利]一种负载金属粒子的石墨相氮化碳(M/g-C3 有效
| 申请号: | 202110527894.X | 申请日: | 2021-05-14 |
| 公开(公告)号: | CN113275031B | 公开(公告)日: | 2022-12-23 |
| 发明(设计)人: | 林青;刘苗苗;吴禧航;丁忆;缪志鹏;梁栋;王昭;王威;张小娟 | 申请(专利权)人: | 金陵科技学院 |
| 主分类号: | B01J27/24 | 分类号: | B01J27/24;B01J35/10;B01J37/34 |
| 代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 吴频梅;陈卓 |
| 地址: | 211169 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 负载 金属 粒子 石墨 氮化 base sub | ||
1.一种负载金属粒子的石墨相氮化碳M/g-C3N4三维支架用于降解有机物的方法,其特征在于:所述步骤如下:
(1)控温40℃ ,先将三聚氰胺甲醛树脂、8.5% 发泡剂碳酸氢钠、1.0% 乳化剂十二烷基苯磺酸钠和2.0% 乳化剂OP-10,10.0% 固化剂甲酸均匀混合,超声处理45分钟后,置于80℃的微波发泡炉内发泡处理100秒,体积稳定后,再置入120℃ 的烘箱内,定型60分钟,形成三维支架,通过0.2%的氨水溶液漂洗后,最后经过超纯水洗涤3次,干燥后得到三聚氰胺甲醛树脂三维支架;
(2)将铜Cu靶安装至磁控溅射仪器内,再将厚度为7毫米的三聚氰胺甲醛树脂三维支架置于磁控溅射仪内,保持与金靶材距离15厘米,当真空度小于5×10-5Pa时,双面溅射铜Cu,溅射时间为180秒;
(3)将溅射铜Cu的三聚氰胺甲醛树脂和三聚氰胺甲醛树脂复合三维支架材料置于高温炉内,氮气保护下,匀速升温至550℃ ,保温4小时,自然冷却后,得到Cu/g-C3N4三维支架;
(4)用50mL浓度为30mg/L罗丹明B溶液模拟有机印染废水,将Cu/g-C3N4三维支架置于罗丹明B溶液中,在太阳光模拟器下,Cu/g-C3N4三维支架催化降解印染废水中有机物。
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