[发明专利]用于产生均匀磁场梯度的装置在审
| 申请号： | 202110517881.4 | 申请日： | 2021-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN113075601A | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 陆俊;张志高;许志一 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 北京市正见永申律师事务所 11497 | 代理人： | 黄小临;冯玉清 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 产生 均匀 磁场 梯度 装置 | ||
1.一种用于产生磁场梯度的装置，包括彼此相对设置的两个瓦片状导电条，每个瓦片状导电条沿长度方向笔直延伸，并且在与所述长度方向垂直的横截面内具有抛物线形状，所述两个瓦片状导电条设置为其凹陷侧彼此相对。
2.如权利要求1所示的装置，其中，所述抛物线形状满足公式：
y＝-ax2+y0，
其中，彼此相对设置的两个瓦片状导电条之间的最大距离h为2y0。
3.如权利要求2所示的装置，其中，所述抛物线形状的二次项系数a满足如下公式：
a*W＝(1±0.2)*2.1151*0.0044log(r)±1，
其中，W是所述瓦片状导电条的宽度，r是W与h之间的比值。
4.如权利要求3所示的装置，其中，r的值在0.2至100的范围内。
5.如权利要求1所示的装置，其中，所述两个瓦片状导电条配置为分别接收沿其长度方向的、方向相同的电流。
6.如权利要求1所示的装置，其中，所述两个瓦片状导电条每个都具有一体结构。
7.如权利要求1所示的装置，其中，所述两个瓦片状导电条每个都包括多个导电子条，所述多个导电子条每个沿长度方向笔直延伸，并且在与所述长度方向垂直的横截面内排列成所述抛物线形状。
8.如权利要求7所示的装置，其中，每个瓦片状导电条中包括的多个导电子条彼此电接触。
9.如权利要求7所示的装置，其中，每个瓦片状导电条中包括的多个导电子条之间通过绝缘漆彼此电绝缘。
10.一种磁测量装置，包括权利要求1-9中的任一项所述的用于产生磁场梯度的装置。
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