[发明专利]可灵活调整溅射范围的物理气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 202110508314.2 申请日: 2021-05-11
公开(公告)号: CN112981352B 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 方合;张慧;崔世甲;宋维聪 申请(专利权)人: 陛通半导体设备(苏州)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/54
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 卢炳琼
地址: 215413 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 灵活 调整 溅射 范围 物理 沉积 设备
【权利要求书】:

1.一种可灵活调整溅射范围的物理气相沉积设备,其特征在于,包括腔体、溅射装置、基座、挡板、驱动装置、驱动齿轮、传动齿轮及多个可动遮挡单元;所述溅射装置位于所述腔体顶部;所述基座、挡板、驱动齿轮、传动齿轮及可动遮挡单元位于所述腔体内,且驱动齿轮、传动齿轮及可动遮挡单元位于所述溅射装置和基座之间;所述挡板包括第一部分和第二部分,所述第一部分沿所述腔体的周向分布,所述第二部分一端与所述第一部分的底部相连接,另一端向所述腔体的中心方向延伸;所述驱动齿轮和传动齿轮相啮合;所述多个可动遮挡单元位于所述传动齿轮的内侧,各所述可动遮挡单元包括相互连接的啮合部和遮挡部,所述啮合部与所述传动齿轮相啮合,相邻的遮挡部部分重叠,以在所述遮挡部的内侧形成溅射通道;所述驱动装置与所述驱动齿轮相连接;当所述驱动齿轮在所述驱动装置的驱动下旋转时,所述传动齿轮在啮合作用下旋转,并带动所述可动遮挡单元旋转,由此改变溅射通道的大小。

2.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备,其特征在于,所述驱动装置包括电机、轴承及转轴;所述电机位于所述腔体外,所述转轴一端与所述电机相连接,另一端向上延伸到所述腔体内,且与所述驱动齿轮相连接,所述轴承位于所述转轴和所述腔体之间。

3.根据权利要求2所述的物理气相沉积设备,其特征在于,所述驱动装置包括两组电机、轴承及转轴,以自相对的两侧驱动所述驱动齿轮。

4.根据权利要求2所述的物理气相沉积设备,其特征在于,所述挡板的第二部分位于所述驱动齿轮的下方,所述转轴穿过所述挡板与所述驱动齿轮相连接。

5.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备,其特征在于,所述挡板的第二部分内设置有第一运动凹槽,所述传动齿轮的底部设置有第二运动凹槽,所述挡板第二部分内的所述第一运动凹槽内另开设有与所述传动齿轮底部开设的第二运动凹槽形状相同且开口方向正对的第三运动凹槽,所述物理气相沉积设备还包括多个滚珠,位于所述第三运动凹槽和第二运动凹槽之间,所述传动齿轮经所述多个滚珠固定于所述第一运动凹槽内,所述可动遮挡单元固定于所述挡板上。

6.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备,其特征在于,所述可动遮挡单元为3个以上,所述遮挡部的内侧为弧形面。

7.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备,其特征在于,所述遮挡部和啮合部为一体连接。

8.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备,其特征在于,所述可动遮挡单元的材质包括金属和陶瓷中的一种或两种的结合。

9.根据权利要求1所述的物理气相沉积设备,其特征在于,所述传动齿轮的高度大于所述驱动齿轮及所述可动遮挡单元的啮合部的高度。

10.根据权利要求1-9任一项所述的物理气相沉积设备,其特征在于,所述物理气相沉积设备还包括盖板,所述盖板一端与所述挡板相连接,另一端延伸到所述驱动齿轮和传动齿轮的上方。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陛通半导体设备(苏州)有限公司,未经陛通半导体设备(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110508314.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top