[发明专利]用于磁砖切割机的排水式工作台在审
申请号: | 202110504661.8 | 申请日: | 2021-05-10 |
公开(公告)号: | CN115319924A | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 林岳仪 | 申请(专利权)人: | 力山工业股份有限公司 |
主分类号: | B28D1/04 | 分类号: | B28D1/04;B28D7/02;B28D7/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 孙蕾 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 磁砖 切割机 排水 工作台 | ||
本发明的排水式工作台包括有一个可移动的活动平台与一个可枢转的导流座。活动平台具有一条排水通道,导流座具有一条连通排水通道的导流通道,且导流座的两端分别具有一个第一导流口与一个第二导流口,当活动平台被拉动至第一位置时,导流座的第一导流口向下倾斜,使得导流通道将排水通道所带来的水流从第一导流口导引至设在活动平台下方的一个集水槽内,当活动平台被推动至第二位置时,导流座的第二导流口向下倾斜,使得导流通道将排水通道所带来的水流从第二导流口导引至集水槽。借此,本发明的排水式工作台可以提供良好的排水效果。
技术领域
本发明与磁砖切割机有关,特别是指一种用于磁砖切割机的排水式工作台。
背景技术
由于磁砖本身具有质地脆硬的特色,所以在切割时不能使用一般的切割工具,而是需要使用专为切割磁砖设计的磁砖切割机。在切割过程中通常会对磁砖适时地喷水,一方面可以冷却锯片的温度,另一方面可以湿润粉尘,让粉尘不会肆意飘洒在空气中,借以避免操作人员吸入过多的粉尘造成不适。
然而在切割过程中,对磁砖所喷洒的水有一部分会残留在工作台上,不但容易导致操作人员的衣服被弄湿,由于这些水通常还会夹带粉尘,所以也会因此弄脏工作台。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种用于磁砖切割机的排水式工作台,其具有良好的排水效果。
为了达成上述主要目的,本发明的排水式工作台适用于磁砖切割机,该磁砖切割机包括有一个底座与一个设在该底座的集水槽。本发明的排水式工作台包括有一个活动平台与一个导流座,该活动平台位于该集水槽上方且能在一第一位置与一第二位置之间移动地设在该底座,该活动平台具有一条贯穿顶底两面的排水通道;该导流座枢设在该活动平台的底面且能在一第一状态与一第二状态之间相对活动平台上下枢转,该导流座具有一条连通该排水通道的导流通道,该导流座的一端具有一个连通该导流通道的第一导流口,该导流座的另一端具有一个连通该导流通道的第二导流口,当该活动平台位于该第一位置时,该导流座往该第一导流口的方向向下倾斜而位于第一状态,此时该第一导流口位于该集水槽上方,且该第一导流口与该活动平台之间的垂直距离大于该第二导流口与该活动平台之间的垂直距离,使得该导流通道将该排水通道所带来的水流从该第一导流口导引至该集水槽内,当该活动平台位于该第二位置时,该导流座往该第二导流口的方向向下倾斜而位于第二状态,此时该第二导流口位于该集水槽上方,且该第二导流口与该活动平台之间的垂直距离大于该第一导流口与该活动平台之间的垂直距离,使得该导流通道将该排水通道所带来的水流从该第二导流口导引至该集水槽内。
由上述可知,本发明的排水式工作台利用该导流座的上下摆动,使得该活动平台不论往前或往后移动,该导流座都能够将喷洒在该活动平台的水流确实导引至该集水槽内,以减少在该活动平台形成积水,进而避免该活动平台及操作人员被积水弄湿弄脏的状况。
根据本发明的实施例,该底座的前后两侧边分别固设一个第一导引件与一个第二导引件,该第一导引件与该第二导引件位于该导流座的左右两相对侧。该导流座具有一个第一端与一个第二端,该第一端具有该第一导流口,该第二端具有该第二导流口,该导流座的一侧面具有一条第一斜槽,该第一斜槽自该导流座的第二端朝该导流座的第一端往上倾斜延伸,该导流座的另一相对侧面具有一条第二斜槽,该第二斜槽自该导流座的第一端朝该导流座的第二端往上倾斜延伸。借此,当该第一导引件嵌设在该第一斜槽时,该导流座会受到该第一导引件的推顶而枢转至该第一状态,此时该第二导引件脱离该第二斜槽,当该第二导引件嵌设在该第二斜槽时,该导流座会受到该第二导引件的推顶而枢转至该第二状态,此时该第一导引件脱离该第一斜槽。
根据本发明的实施例,该第一导引件具有一个固设在该底座的第一支撑片与一根设在该第一支撑片的第一销件,该第一导引件用该第一销件嵌设在该第一斜槽。该第二导引件具有一个固设在该底座的第二支撑片与一根设在该第二支撑片的第二销件,该第二导引件用该第二销件嵌设在该第二斜槽。
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