[发明专利]基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法

权利要求书

1.一种基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

（a）通过控制岩石试样的波速来筛选满足实验要求的样品，并使用黑色哑光漆在岩石表面喷洒散斑团案进行预处理；

（b）设置多功能环境试验装置和具有相机的岩石微观变形非接触测量系统，对准所述岩石微观变形非接触测量系统的相机，将样品放入所述多功能环境试验装置内，调节所述相机的高度以使所述相机对准所述多功能环境试验装置内的样品，然后对所述多功能环境试验装置分别设置所需样品要求的温度、湿度以及污染物类型和浓度，启动多功能环境试验装置从而对样品进行高温高湿以及腐蚀试验，同时启动相机以规定的时间间隔进行拍摄，并在电脑上存储所述相机拍摄到的多组数据；

（c）在模拟风化试验结束后，计算机利用数字图像相关技术和软件处理并比较所存储的所述多组数据，得到样品在相互垂直的两个方向上的位移以及所拍摄区域任一范围内的应力场和应变场大小及其分布。

2.根据权利要求1所述的基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法，其特征在于，

所述步骤（b）中，所述多组数据是由所述相机以规定时间间隔拍摄所述样品的规定位置得到的数据；

所述多组数据包括：在对所述样品进行高温高湿以及腐蚀试验之前拍摄得到的基准图像；和在对所述样品进行高温高湿以及腐蚀试验的过程中以规定时间间隔拍摄得到的多个目标图像。

3.根据权利要求2所述的基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法，其特征在于，

所述规定位置是设置于所述样品表面的多个测量点。

4.根据权利要求1所述的基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法，其特征在于，

岩石微观变形非接触测量系统包括：

光学防震平台；

设置在所述光学防震平台上的底座；以及

调节支架，所述调节支架通过套筒将竖直杆与水平杆相连接后立设于所述底座上；

所述水平杆上设置有相机。

5.根据权利要求4所述的基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法，其特征在于，

调节所述相机的高度包括：调节所述水平杆和所述套筒在所述竖直杆上的位置。

6.根据权利要求1所述的基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法，其特征在于，

所述相机采用CMOS相机或CCD相机。

7.根据权利要求6所述的基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法，其特征在于，

所述相机的分别率为5498×3672像素。

8.根据权利要求6或7所述的基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法，其特征在于，

所述相机上安装有变焦镜头和光源。

9.根据权利要求8所述的基于数字图像技术的石窟文物微观变形非接触测量方法，其特征在于，

所述变焦镜头是12-36mm变焦镜头。