[发明专利]一种石质文物水分来源的无损检测与分析方法

权利要求书

1.一种石质文物水分来源的无损检测与分析方法，其特征在于，包括利用微波水分测定仪测量壁面以下含水率的步骤、利用红外热成像相机拍摄得到热成像照片的步骤、以及分析水分来源的步骤；

所述利用微波水分测定仪测量壁面以下含水率的步骤包括：

从壁面上划出一个矩形区域作为测量区域，并选择多个测试点，利用微波水分测定仪测量测试点处壁面以下不同深度的含水率，得到壁面以下含水率数据；

所述利用红外热成像相机拍摄得到热成像照片的步骤包括：

选择红外热成像相机拍摄区域，所述拍摄区域至少包含所述测量区域，利用红外热成像相机对选择的拍摄区域进行拍摄，得到红外热成像照片；

所述分析水分来源的步骤包括：

结合所述壁面以下含水率数据和所述红外热成像照片，分析水分在不同深度下的数据变化趋势，根据所述变化趋势判断水分来源。

2.根据权利要求1所述的石质文物水分来源的无损检测与分析方法，其特征在于，选择多个测试点时，对所述矩形区域划分行间距、列间距分别为固定值的网格，并将所述网格的横竖线的交叉点作为测试点。

3.根据权利要求1所述的石质文物水分来源的无损检测与分析方法，其特征在于，利用微波水分测定仪测量测试点处壁面以下不同深度的含水率时，分别测量深度为2cm、5cm、10cm及25cm的位置的含水率。

4.根据权利要求3所述的石质文物水分来源的无损检测与分析方法，其特征在于，利用微波水分测定仪测量测试点处壁面以下不同深度的含水率后，比对最浅深度下的含水率分布图像与热成像照片；

所述分析水分来源的步骤包括：如果存在微波含水率值高的部位与红外热成像照片中的低温部位重合的情况，则判定该部位在表层有水的存在。

5.根据权利要求4所述的石质文物水分来源的无损检测与分析方法，其特征在于，所述分析水分来源的步骤包括：根据壁面以下含水率数据，判断含水率在不同深度下的数据变化趋势，当变化趋势为在规定深度以下随着深度的增加，含水率值不断增加时，判定水分来源包括石窟内部渗水；当变化趋势为最浅深度的含水率高于规定深度的含水率时，判定水分来源包括作用于表面的凝结水。

6.根据权利要求4所述的石质文物水分来源的无损检测与分析方法，其特征在于，所述最浅深度为2cm，所述规定深度为5cm。

7.根据权利要求1所述的石质文物水分来源的无损检测与分析方法，其特征在于，分析水分来源的步骤包括：根据红外热成像照片，判断温度变化趋势是否为在一定高度内温度的垂直分布为下面温度低、上面温度高的趋势，若是，则判定水分来源中包括毛细水。

8.根据权利要求1或7所述的石质文物水分来源的无损检测与分析方法，其特征在于，分析水分来源的步骤包括：根据壁面以下含水率数据，判断相同深度下水分的变化趋势是否为在垂直分布上呈现下方高、上方低的趋势，若是，则判定水分来源中包括毛细水。